半导体制造装置用部件的制造方法和半导体制造装置用部件

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专利类型
发明
申请号
CN201780044445.1
申请日
2017-07-13
公开(公告)号
CN109476554B
公开(公告)日
2019-03-15
发明(设计)人
三矢耕平 丹下秀夫 堀田元树 小川贵道
申请人
申请人地址
日本爱知县
IPC主分类号
C04B3700
IPC分类号
H01L21683
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;李茂家
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[21]
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半导体制造装置和半导体制造方法 [P]. 
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山口欣秀 ;
佐藤清彦 .
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[29]
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