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半导体制造装置和半导体制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311525588.8
申请日
:
2023-11-16
公开(公告)号
:
CN117265509B
公开(公告)日
:
2024-03-15
发明(设计)人
:
卞达开
罗际蔚
边春旭
申请人
:
研微(江苏)半导体科技有限公司
申请人地址
:
214100 江苏省无锡市无锡经济开发区太湖街道震泽路688号太湖湾信息技术产业园1号楼2201-01
IPC主分类号
:
C23C16/455
IPC分类号
:
C23C16/32
C23C16/52
H01L21/02
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
杜娟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20231116
2024-03-15
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体制造装置和半导体制造方法
[P].
森田朋岳
论文数:
0
引用数:
0
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0
森田朋岳
.
中国专利
:CN101202240A
,2008-06-18
[2]
半导体制造方法和半导体制造装置
[P].
山口欣秀
论文数:
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0
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0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
山口欣秀
;
佐藤清彦
论文数:
0
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0
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0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
佐藤清彦
.
日本专利
:CN114916240B
,2025-11-21
[3]
半导体制造方法和半导体制造装置
[P].
山口欣秀
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0
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0
山口欣秀
;
佐藤清彦
论文数:
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0
佐藤清彦
.
中国专利
:CN114916240A
,2022-08-16
[4]
半导体制造方法和半导体制造装置
[P].
长谷川博之
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长谷川博之
;
山冈智刚
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山冈智刚
;
石原良夫
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石原良夫
;
增崎宏
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增崎宏
.
中国专利
:CN1183578C
,2001-09-12
[5]
半导体制造装置和半导体制造方法
[P].
冈部庸之
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冈部庸之
;
金子健吾
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金子健吾
.
中国专利
:CN100462887C
,2006-03-22
[6]
半导体制造装置、半导体制造工厂及半导体制造方法
[P].
南出由生
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机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
南出由生
;
和田直之
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机构:
胜高股份有限公司
胜高股份有限公司
和田直之
.
日本专利
:CN120418927A
,2025-08-01
[7]
半导体制造方法、半导体制造装置以及半导体装置
[P].
太駄俊彦
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太駄俊彦
;
黑泽哲也
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黑泽哲也
;
福田昌利
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福田昌利
.
中国专利
:CN110310903A
,2019-10-08
[8]
半导体制造装置以及半导体制造方法
[P].
田中博司
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田中博司
.
中国专利
:CN110383428A
,2019-10-25
[9]
半导体制造装置及半导体制造方法
[P].
申平洙
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申平洙
;
金秉勳
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金秉勳
.
中国专利
:CN103137468B
,2013-06-05
[10]
半导体制造方法及半导体制造装置
[P].
川崎辉尚
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川崎辉尚
;
青柳克信
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青柳克信
;
黒濑范子
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黒濑范子
.
中国专利
:CN112640046A
,2021-04-09
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