清洗半导体元件的方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510270940.7
申请日
2015-05-25
公开(公告)号
CN106206247A
公开(公告)日
2016-12-07
发明(设计)人
苏水金
申请人
申请人地址
315000 浙江省宁波市鄞州工业园区(鄞州区姜山镇新张俞村)
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
张振军
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件清洗机 [P]. 
吴永清 .
中国专利 :CN2889529Y ,2007-04-18
[2]
半导体元件的清洗方法 [P]. 
郑明德 .
中国专利 :CN1835192A ,2006-09-20
[3]
半导体元件的清洗方法 [P]. 
冯颖 .
中国专利 :CN109427539A ,2019-03-05
[4]
蒸气清洗方式的半导体元件清洗机 [P]. 
吴永清 .
中国专利 :CN201454903U ,2010-05-12
[5]
半导体元件的清洗用液体组合物、半导体元件的清洗方法及半导体元件的制造方法 [P]. 
青山公洋 ;
田岛恒夫 .
中国专利 :CN106601598B ,2017-04-26
[6]
半导体元件的清洗用液体组合物及半导体元件的清洗方法、以及半导体元件的制造方法 [P]. 
青山公洋 ;
田岛恒夫 .
中国专利 :CN106952803B ,2017-07-14
[7]
半导体硅片的清洗方法和装置 [P]. 
王晖 ;
陈福平 ;
谢良智 ;
贾社娜 ;
王希 ;
张晓燕 .
中国专利 :CN104813438B ,2015-07-29
[8]
半导体晶片的清洗方法 [P]. 
陈中泰 .
中国专利 :CN1338771A ,2002-03-06
[9]
半导体元件的清洗用液体组合物、和半导体元件的清洗方法 [P]. 
岛田宪司 .
中国专利 :CN105210176A ,2015-12-30
[10]
半导体元件的形成方法 [P]. 
张正伟 ;
洪敏修 ;
蔡纯怡 ;
张根育 ;
刘奕瑩 .
中国专利 :CN114765128A ,2022-07-19