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灰色调掩模的缺陷检查方法和灰色调掩模的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200410030983.X
申请日
:
2004-04-01
公开(公告)号
:
CN1534365A
公开(公告)日
:
2004-10-06
发明(设计)人
:
池边寿美
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02F1136
IPC分类号
:
H01L29786
H01L2100
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司
代理人
:
李辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2004-12-22
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-10-06
公开
公开
2009-02-11
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回
共 50 条
[1]
灰色调掩模和灰色调掩模的制造方法
[P].
佐野道明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐野道明
.
中国专利
:CN1721988A
,2006-01-18
[2]
灰色调掩模的缺陷检查方法
[P].
池边寿美
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
池边寿美
.
中国专利
:CN1536440A
,2004-10-13
[3]
灰色调掩模和薄膜晶体管基板的制造方法
[P].
佐野道明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐野道明
.
中国专利
:CN1837956A
,2006-09-27
[4]
半色调掩模和半色调掩模坯
[P].
齐藤隆史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
齐藤隆史
.
中国专利
:CN107589630A
,2018-01-16
[5]
灰色调曝光用掩模、使用该掩模的TFT基板的制造方法和具有该TFT基板的液晶显示装置
[P].
樱井洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
樱井洋
.
中国专利
:CN101620374A
,2010-01-06
[6]
波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法
[P].
村井诚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
村井诚
.
中国专利
:CN1702429A
,2005-11-30
[7]
光掩模的缺陷检查方法以及光掩模
[P].
佐野道明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐野道明
.
中国专利
:CN101025563A
,2007-08-29
[8]
半色调掩模板及其制作方法
[P].
崔承镇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
崔承镇
;
金基用
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金基用
.
中国专利
:CN102103323A
,2011-06-22
[9]
光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法
[P].
张旺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
张旺
;
徐佳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
徐佳
;
宋晓辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
宋晓辉
.
中国专利
:CN118425043B
,2025-01-21
[10]
光掩模缺陷检查装置及光掩模缺陷检查方法
[P].
张旺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
张旺
;
徐佳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
徐佳
;
宋晓辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡迪思微电子有限公司
无锡迪思微电子有限公司
宋晓辉
.
中国专利
:CN118425043A
,2024-08-02
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