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高压半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510305777.3
申请日
:
2015-06-05
公开(公告)号
:
CN104835837A
公开(公告)日
:
2015-08-12
发明(设计)人
:
姚国亮
张邵华
吴建兴
申请人
:
申请人地址
:
310012 浙江省杭州市黄姑山路4号
IPC主分类号
:
H01L2906
IPC分类号
:
H01L2978
H01L21336
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
张振军
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-08-12
公开
公开
2017-07-28
授权
授权
2015-09-09
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101624666670 IPC(主分类):H01L 29/06 专利申请号:2015103057773 申请日:20150605
共 50 条
[1]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
金容灿
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金容灿
;
金容顿
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金容顿
;
李准珩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李准珩
.
中国专利
:CN1862832A
,2006-11-15
[2]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
高哲柱
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高哲柱
.
中国专利
:CN1992347A
,2007-07-04
[3]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
王仲盛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王仲盛
;
王文智
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王文智
;
蒯照
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
蒯照
.
中国专利
:CN119133250A
,2024-12-13
[4]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
高光永
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高光永
.
中国专利
:CN100524824C
,2007-06-20
[5]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
王仲盛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王仲盛
;
王文智
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王文智
;
蒯照
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
蒯照
.
中国专利
:CN119133250B
,2025-12-02
[6]
高压半导体器件及其制造方法
[P].
金知泓
论文数:
0
引用数:
0
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0
金知泓
;
丁详勋
论文数:
0
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0
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0
丁详勋
.
中国专利
:CN101211980A
,2008-07-02
[7]
高压半导体器件
[P].
姚国亮
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姚国亮
;
张邵华
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张邵华
;
吴建兴
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0
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0
吴建兴
.
中国专利
:CN204651326U
,2015-09-16
[8]
高压半导体器件
[P].
姚国亮
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0
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0
姚国亮
;
张邵华
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0
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0
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张邵华
;
吴建兴
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0
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0
吴建兴
.
中国专利
:CN204760388U
,2015-11-11
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
满生彰
论文数:
0
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0
h-index:
0
满生彰
.
中国专利
:CN114388473A
,2022-04-22
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
津田是文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
津田是文
.
中国专利
:CN107591449B
,2018-01-16
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