高压半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510305777.3
申请日
2015-06-05
公开(公告)号
CN104835837A
公开(公告)日
2015-08-12
发明(设计)人
姚国亮 张邵华 吴建兴
申请人
申请人地址
310012 浙江省杭州市黄姑山路4号
IPC主分类号
H01L2906
IPC分类号
H01L2978 H01L21336
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
张振军
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
金容灿 ;
金容顿 ;
李准珩 .
中国专利 :CN1862832A ,2006-11-15
[2]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
高哲柱 .
中国专利 :CN1992347A ,2007-07-04
[3]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
王仲盛 ;
王文智 ;
蒯照 .
中国专利 :CN119133250A ,2024-12-13
[4]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
高光永 .
中国专利 :CN100524824C ,2007-06-20
[5]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
王仲盛 ;
王文智 ;
蒯照 .
中国专利 :CN119133250B ,2025-12-02
[6]
高压半导体器件及其制造方法 [P]. 
金知泓 ;
丁详勋 .
中国专利 :CN101211980A ,2008-07-02
[7]
高压半导体器件 [P]. 
姚国亮 ;
张邵华 ;
吴建兴 .
中国专利 :CN204651326U ,2015-09-16
[8]
高压半导体器件 [P]. 
姚国亮 ;
张邵华 ;
吴建兴 .
中国专利 :CN204760388U ,2015-11-11
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
满生彰 .
中国专利 :CN114388473A ,2022-04-22
[10]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
津田是文 .
中国专利 :CN107591449B ,2018-01-16