旋涂沉积金属氧化物的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780013847.5

申请日：

2017-01-26

公开(公告)号：

CN108701587A

公开(公告)日：

2018-10-23

发明(设计)人：

尼哈尔·莫汉蒂利奥尔·胡利杰弗里·史密斯理查德·法雷尔

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F716 H01L2128

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

蔡胜有;苏虹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20170126
2018-10-23	公开	公开

共 50 条

[1]

金属氧化物、金属氧化物的沉积方法及金属氧化物的沉积装置 [P].

山崎舜平 ;

神保安弘 ;

惠木勇司 ;

挂端哲弥 .

中国专利 :CN115152006A ,2022-10-04

[2]

金属氧化物的沉积方法 [P].

山崎舜平 ;

挂端哲弥 ;

川上祥子 ;

井坂史人 ;

惠木勇司 .

日本专利 :CN117403206A ,2024-01-16

[3]

沉积金属氧化物材料的方法 [P].

J·毛拉 ;

K·哈克内 .

中国专利 :CN101688300B ,2010-03-31

[4]

金属氧化物薄膜，沉积金属氧化物薄膜的方法及包含金属氧化物薄膜的装置 [P].

一杉太郎 .

中国专利 :CN107074662B ,2017-08-18

[5]

用于沉积金属氧化物膜的方法 [P].

卡洛·塔利亚尼 ;

彼得·诺扎尔 .

中国专利 :CN101970709A ,2011-02-09

[6]

金属氧化物涂覆的锂混合氧化物颗粒 [P].

R·奥斯顿 ;

U·海德 ;

A·库纳 ;

N·罗兹 ;

A·阿曼 ;

M·尼曼 .

中国专利 :CN1350706A ,2002-05-22

[7]

利用MOCVD沉积金属氧化物薄膜的方法 [P].

庄维佛 ;

许胜藤 ;

潘威 .

中国专利 :CN1510162A ,2004-07-07

[8]

金属氧化物的选择性沉积 [P].

V·马德希瓦拉 ;

V·万达伦 ;

N·V·斯里纳思 ;

E·托伊斯 ;

邓少任 ;

D·基亚佩 ;

M·图米恩 ;

C·德泽拉 ;

韩镕圭 ;

K·K·威蒂尤拉 ;

G·威尔克 ;

D·赞德斯 ;

A·M·卡罗 .

:CN118522635A ,2024-08-20

[9]

均匀涂覆的粒状金属氧化物 [P].

W·E·法内斯 ;

N·赫尔龙 .

中国专利 :CN1215698A ,1999-05-05

[10]

金属氧化物薄膜的沉积方法及其制备装置 [P].

徐祥准 ;

刘址范 ;

郑昊均 ;

赵成珉 .

中国专利 :CN105821395B ,2016-08-03

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