半导体器件及半导体器件的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200510109750.3
申请日
2005-09-21
公开(公告)号
CN100418224C
公开(公告)日
2006-03-29
发明(设计)人
外园明
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2704
IPC分类号
H01L21822
代理机构
永新专利商标代理有限公司
代理人
王英
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件的制造方法 [P]. 
本间俊广 .
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[2]
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盐泽顺一 .
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[4]
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[6]
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[8]
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[9]
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[10]
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堰和彦 .
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