半导体器件的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610002412.4
申请日
2006-01-27
公开(公告)号
CN1841706A
公开(公告)日
2006-10-04
发明(设计)人
本间俊广
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
王以平
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及半导体器件的制造方法 [P]. 
外园明 .
中国专利 :CN100418224C ,2006-03-29
[2]
半导体器件的制造方法 [P]. 
谷口泰弘 ;
志波和佳 .
中国专利 :CN101030556B ,2007-09-05
[3]
半导体器件的制造方法 [P]. 
山本知成 ;
久保智裕 .
中国专利 :CN1945801B ,2007-04-11
[4]
半导体器件和半导体器件的制造方法 [P]. 
松野光一 ;
盐泽顺一 .
中国专利 :CN1489215A ,2004-04-14
[5]
半导体器件的制造方法和半导体器件 [P]. 
小森重树 .
中国专利 :CN1893002A ,2007-01-10
[6]
制造半导体器件的方法 [P]. 
冈治成治 .
中国专利 :CN105679677B ,2016-06-15
[7]
半导体器件、制造半导体器件的方法以及电子装置 [P]. 
冈治成治 .
中国专利 :CN102856381A ,2013-01-02
[8]
半导体器件以及制造半导体器件的方法 [P]. 
井上隆 ;
竹胁利至 ;
中山达峰 ;
冈本康宏 ;
宫本广信 .
中国专利 :CN104681617B ,2015-06-03
[9]
半导体器件及半导体器件的制造方法 [P]. 
多木俊裕 ;
西森理人 ;
今田忠纮 .
中国专利 :CN103201841A ,2013-07-10
[10]
半导体器件和半导体器件的制造方法 [P]. 
森田祐介 ;
土屋龙太 ;
石垣隆士 ;
杉井信之 ;
木村绅一郎 .
中国专利 :CN101604691B ,2009-12-16