等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010623407.1

申请日：

2010-12-28

公开(公告)号：

CN102110573A

公开(公告)日：

2011-06-29

发明(设计)人：

林大辅

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3704 H01L2100 H05H146

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-24	授权	授权
2011-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101096117016 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2010106234071 申请日:20101228
2011-06-29	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[4]

等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

饭塚八城 ;

山本薰 .

中国专利 :CN101521150A ,2009-09-02

[5]

等离子体处理装置 [P].

桧森慎司 ;

林大辅 ;

清水昭贵 .

中国专利 :CN102110574B ,2011-06-29

[6]

等离子体处理装置 [P].

泽田郁夫 ;

P·芬泽克 ;

大下辰郎 ;

松崎和爱 ;

康松润 .

中国专利 :CN101601125B ,2009-12-09

[7]

等离子体处理装置 [P].

佐藤亮 ;

齐藤均 .

中国专利 :CN101552188B ,2009-10-07

[8]

等离子体处理装置 [P].

松本直树 ;

舆水地盐 ;

舆石公 .

中国专利 :CN101431854A ,2009-05-13

[9]

等离子体处理装置 [P].

佐佐木芳彦 ;

佐藤亮 ;

山科井作 .

中国专利 :CN111952141A ,2020-11-17

[10]

等离子体处理装置 [P].

吉川润 ;

松本直树 ;

三原直辉 ;

吉川弥 ;

吉村正太 ;

高桥和树 .

中国专利 :CN102709144A ,2012-10-03

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