等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010623407.1

申请日：

2010-12-28

公开(公告)号：

CN102110573A

公开(公告)日：

2011-06-29

发明(设计)人：

林大辅

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3704 H01L2100 H05H146

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-24	授权	授权
2011-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101096117016 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2010106234071 申请日:20101228
2011-06-29	公开	公开

共 50 条

[21]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

石桥清隆 .

中国专利 :CN101587825B ,2009-11-25

[22]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[23]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

池田太郎 ;

久保敦史 ;

镰田英纪 ;

山本伸彦 .

中国专利 :CN112509900A ,2021-03-16

[24]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[25]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

西野雅 ;

舟久保隆男 ;

狐塚慎一 ;

新妻良祐 ;

伊藤务 .

中国专利 :CN104576453A ,2015-04-29

[26]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 ;

佐佐木芳彦 .

中国专利 :CN100536069C ,2008-04-30

[27]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

小津俊久 ;

松本直树 ;

塚本刚史 ;

高井和人 .

中国专利 :CN102473634A ,2012-05-23

[28]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

吉川润 ;

西塚哲也 ;

佐佐木胜 .

中国专利 :CN101521980A ,2009-09-02

[29]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

小山纮司 ;

小津俊久 ;

吉村正太 .

中国专利 :CN104350585A ,2015-02-11

[30]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

藤井徹 ;

今田祥友 ;

大槻兴平 .

日本专利 :CN111383899B ,2024-07-12

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