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一种半导体硅片表面清洗机构
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020774497.3
申请日
:
2020-05-12
公开(公告)号
:
CN211929444U
公开(公告)日
:
2020-11-13
发明(设计)人
:
常雪岩
武卫
刘园
刘建伟
祝斌
刘姣龙
裴坤羽
袁祥龙
孙晨光
王彦君
王聚安
由佰玲
杨春雪
谢艳
刘秒
吕莹
徐荣清
申请人
:
申请人地址
:
300384 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2102
B08B308
B08B310
B08B312
代理机构
:
天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213
代理人
:
栾志超
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-11-13
授权
授权
共 50 条
[1]
一种半导体硅片表面清洗机构及其清洗工艺
[P].
常雪岩
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常雪岩
;
武卫
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武卫
;
刘园
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刘园
;
刘建伟
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刘建伟
;
祝斌
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祝斌
;
刘姣龙
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刘姣龙
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裴坤羽
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裴坤羽
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袁祥龙
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袁祥龙
;
孙晨光
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孙晨光
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王彦君
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王彦君
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王聚安
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王聚安
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由佰玲
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由佰玲
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杨春雪
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杨春雪
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谢艳
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谢艳
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刘秒
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刘秒
;
吕莹
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吕莹
;
徐荣清
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徐荣清
.
中国专利
:CN111446188A
,2020-07-24
[2]
一种半导体级硅片表面预清洗装置
[P].
李炜
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李炜
;
王看看
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王看看
.
中国专利
:CN210386747U
,2020-04-24
[3]
一种半导体炉管清洗机构
[P].
梁尚红
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梁尚红
.
中国专利
:CN213001578U
,2021-04-20
[4]
一种半导体炉管清洗机构
[P].
钱诚
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钱诚
;
李刚
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李刚
;
周少龙
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周少龙
.
中国专利
:CN208853394U
,2019-05-14
[5]
一种半导体清洗机搬运机构
[P].
孔祥振
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孔祥振
;
焦明印
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焦明印
;
李为一
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李为一
.
中国专利
:CN218274545U
,2023-01-10
[6]
一种半导体硅片清洗机上的清洗槽结构
[P].
徐俊
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徐俊
.
中国专利
:CN111584413A
,2020-08-25
[7]
一种半导体清洗机
[P].
朱耿森
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机构:
台舟电子股份有限公司
台舟电子股份有限公司
朱耿森
;
蔡丽虹
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机构:
台舟电子股份有限公司
台舟电子股份有限公司
蔡丽虹
;
朱和亮
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机构:
台舟电子股份有限公司
台舟电子股份有限公司
朱和亮
.
中国专利
:CN220541590U
,2024-02-27
[8]
一种半导体硅片表面蚀刻装置
[P].
徐晶骥
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徐晶骥
;
董国斌
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董国斌
;
叶俊
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叶俊
.
中国专利
:CN215183877U
,2021-12-14
[9]
一种硅片清洗机构
[P].
王大伟
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王大伟
;
武治军
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武治军
;
陈佩璐
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陈佩璐
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危晨
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危晨
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赵越
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赵越
.
中国专利
:CN214638655U
,2021-11-09
[10]
一种半导体硅片用清洗装置
[P].
余涛
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余涛
;
朴灵绪
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朴灵绪
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郭巍
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郭巍
.
中国专利
:CN213826091U
,2021-07-30
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