一种半导体硅片表面清洗机构及其清洗工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010396090.6

申请日：

2020-05-12

公开(公告)号：

CN111446188A

公开(公告)日：

2020-07-24

发明(设计)人：

常雪岩武卫刘园刘建伟祝斌刘姣龙裴坤羽袁祥龙孙晨光王彦君王聚安由佰玲杨春雪谢艳刘秒吕莹徐荣清

申请人：

申请人地址：

300384 天津市滨海新区华苑产业区（环外）海泰东路12号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102 B08B308 B08B310 B08B312

代理机构：

天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213

代理人：

栾志超

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-24	公开	公开
2020-08-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200512

共 50 条

[1]

一种半导体硅片表面清洗机构 [P].

常雪岩 ;

武卫 ;

刘园 ;

刘建伟 ;

祝斌 ;

刘姣龙 ;

裴坤羽 ;

袁祥龙 ;

孙晨光 ;

王彦君 ;

王聚安 ;

由佰玲 ;

杨春雪 ;

谢艳 ;

刘秒 ;

吕莹 ;

徐荣清 .

中国专利 :CN211929444U ,2020-11-13

[2]

半导体硅片的清洗工艺腔及半导体硅片的清洗工艺 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN102243988B ,2011-11-16

[3]

半导体硅片清洗工艺腔 [P].

张晨骋 ;

张伟 .

中国专利 :CN201898117U ,2011-07-13

[4]

半导体硅片清洗工艺腔和清洗方法 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN102005367B ,2011-04-06

[5]

一种半导体硅片清洗机上的清洗槽结构 [P].

徐俊 .

中国专利 :CN111584413A ,2020-08-25

[6]

半导体硅片的清洗工艺腔 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN202006190U ,2011-10-12

[7]

半导体硅片的清洗装置及其清洗方法 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN102513305B ,2012-06-27

[8]

一种清洗200mm半导体硅片的清洗工艺 [P].

褚鑫 ;

李星 ;

林涛 ;

曹锦伟 .

中国专利 :CN111681944A ,2020-09-18

[9]

半导体硅片清洗装置及其清洗方法 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN101447415A ,2009-06-03

[10]

一种半导体级硅片表面预清洗装置 [P].

李炜 ;

王看看 .

中国专利 :CN210386747U ,2020-04-24

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