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在晶圆上沉积薄膜的反应器
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200880100169.7
申请日：
2008-07-23
公开(公告)号：
CN101755073A
公开(公告)日：
2010-06-23
发明(设计)人：
韩昌熙
李昊荣
朴相俊
许真弼
安铁贤
李晶桓
申请人：
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
C23C1600
IPC分类号：
代理机构：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019
代理人：
寿宁
法律状态：
专利申请权、专利权的转移
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-08-17 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101737298380 IPC(主分类):C23C 16/00 专利号:ZL2008801001697 登记生效日:20160726 变更事项:专利权人 变更前权利人:圆益控股股份有限公司 变更后权利人:圆益IPS股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞) 变更后权利人:韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75 |
| 2016-08-17 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101737298379 IPC(主分类):C23C 16/00 专利号:ZL2008801001697 变更事项:专利权人 变更前:圆益IPS股份有限公司 变更后:圆益控股股份有限公司 变更事项:地址 变更前:韩国京畿道 变更后:韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞) |
| 2010-06-23 | 公开 | 公开 |
| 2010-08-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004904008 IPC(主分类):C23C 16/00 专利申请号:2008801001697 申请日:20080723 |
| 2011-10-12 | 授权 | 授权 |
| 2012-03-21 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101304720800 IPC(主分类):C23C 16/00 专利号:ZL2008801001697 变更事项:专利权人 变更前:IPS股份有限公司 变更后:圆益IPS股份有限公司 变更事项:地址 变更前:韩国京畿道 变更后:韩国京畿道 |