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LDMOS晶体管及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010583302.1
申请日
:
2020-06-23
公开(公告)号
:
CN113838906A
公开(公告)日
:
2021-12-24
发明(设计)人
:
李敏
季明华
张汝京
申请人
:
申请人地址
:
266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401
IPC主分类号
:
H01L2906
IPC分类号
:
H01L2978
H01L21762
H01L21336
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
贺妮妮
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-11
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/06 申请日:20200623
2021-12-24
公开
公开
共 50 条
[1]
LDMOS晶体管及其制备方法
[P].
李敏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
李敏
;
季明华
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
季明华
;
张汝京
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
张汝京
.
中国专利
:CN113838906B
,2024-01-09
[2]
LDMOS晶体管及其制备方法
[P].
刘宪周
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘宪周
.
中国专利
:CN108122780A
,2018-06-05
[3]
LDMOS晶体管及其制备方法
[P].
吴亚贞
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴亚贞
.
中国专利
:CN111785639A
,2020-10-16
[4]
LDMOS晶体管及其制备方法
[P].
吴亚贞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
吴亚贞
.
中国专利
:CN111785639B
,2024-02-02
[5]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
曹国豪
论文数:
0
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曹国豪
;
郑大燮
论文数:
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引用数:
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郑大燮
.
中国专利
:CN104701366A
,2015-06-10
[6]
LDMOS晶体管及其制造方法
[P].
赵猛
论文数:
0
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0
赵猛
.
中国专利
:CN109755133A
,2019-05-14
[7]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
郑大燮
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郑大燮
;
魏琰
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魏琰
.
中国专利
:CN103594492A
,2014-02-19
[8]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
刘正超
论文数:
0
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刘正超
.
中国专利
:CN103077895A
,2013-05-01
[9]
LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
曹国豪
论文数:
0
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曹国豪
;
郑大燮
论文数:
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郑大燮
.
中国专利
:CN103050528A
,2013-04-17
[10]
LDMOS晶体管及其制造方法
[P].
余山
论文数:
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余山
;
赵东艳
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赵东艳
;
陈燕宁
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陈燕宁
;
付振
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付振
;
刘芳
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刘芳
;
王帅鹏
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王帅鹏
;
王凯
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王凯
;
吴波
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吴波
;
邓永峰
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邓永峰
;
刘倩倩
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刘倩倩
;
郁文
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郁文
;
张同
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张同
.
中国专利
:CN115274859B
,2023-01-20
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