金属/绝缘体/金属电容结构的半导体装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN200420117929.4
申请日
2004-10-20
公开(公告)号
CN2796102Y
公开(公告)日
2006-07-12
发明(设计)人
涂国基 陈椿瑶 伍寿国 王铨中
申请人
申请人地址
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号
IPC主分类号
H01L27108
IPC分类号
H01L2701 H01L2702 H01L2700
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司
代理人
穆魁良
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
金属-绝缘体-半导体-绝缘体-金属装置 [P]. 
胡振国 ;
杨昶丰 ;
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潘正圣 .
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[2]
金属-绝缘体-金属电容结构 [P]. 
侯泰成 ;
林大钧 ;
蔡滨祥 ;
蔡馥郁 ;
萧雅茵 ;
苏柏青 ;
李一凡 ;
侯冠志 ;
王裕夫 ;
陈俤彬 ;
吴志强 ;
王尧展 .
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[3]
具有金属-绝缘体-金属电容的半导体器件 [P]. 
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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H·克尔纳 ;
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[9]
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高弘昭 ;
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陈蕙祺 ;
陈殿豪 ;
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[10]
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菊田邦子 ;
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