掩模及其配置方法、光刻系统和光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910617337.X

申请日：

2019-07-10

公开(公告)号：

CN110231753A

公开(公告)日：

2019-09-13

发明(设计)人：

黄增智夏睿藤井光一

申请人：

申请人地址：

223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

IPC主分类号：

G03F176

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

周衡威

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/76 申请日:20190710
2019-09-13	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻掩模和包括所述光刻掩模的光刻系统 [P].

R·博德里 .

加拿大专利 :CN117651909A ,2024-03-05

[2]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

W·恩格伦 ;

J·艾科曼斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

O·弗里吉恩斯 .

中国专利 :CN108873623A ,2018-11-23

[3]

光刻方法和光刻系统 [P].

A·尼基佩洛维 ;

O·弗里吉恩斯 ;

G·德弗里斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·巴尼内 ;

P·德加格 ;

R·唐克 ;

H-K·尼恩海斯 ;

B·克瑞金加 ;

W·恩格伦 ;

O·鲁伊藤 ;

J·艾科曼斯 ;

L·格里敏克 ;

V·里特维南科 .

中国专利 :CN105359038B ,2016-02-24

[4]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[5]

光刻系统及其光刻方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN109976100B ,2019-07-05

[6]

转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统 [P].

张锦 ;

冯伯儒 ;

刘娟 ;

宗德蓉 .

中国专利 :CN100510963C ,2005-11-02

[7]

直写光刻系统和直写光刻方法 [P].

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

王冠楠 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112987501B ,2021-06-18

[8]

光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法 [P].

宫岛义一 ;

中野一志 .

中国专利 :CN105892231B ,2016-08-24

[9]

光刻系统的扫描方法和光刻系统 [P].

陈国军 ;

吴景舟 ;

马迪 .

中国专利 :CN112764324B ,2021-05-07

[10]

光刻系统和方法 [P].

陈泰佑 ;

刘恒信 ;

陈立锐 ;

简上杰 .

中国专利 :CN114764216A ,2022-07-19

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