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X射线荧光分析仪系统和用于对浆料中的感兴趣元素执行X射线荧光分析的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980041872.3
申请日
:
2019-02-18
公开(公告)号
:
CN112313503A
公开(公告)日
:
2021-02-02
发明(设计)人
:
H·西皮拉
A·佩里
T·科斯基宁
申请人
:
申请人地址
:
芬兰埃斯波
IPC主分类号
:
G01N23207
IPC分类号
:
G01N23223
G21K106
G01T116
C22B302
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
聂慧荃;郑特强
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-02-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 23/207 申请日:20190218
2021-02-02
公开
公开
共 50 条
[1]
X射线荧光分析仪系统和用于对浆料中的感兴趣元素执行X射线荧光分析的方法
[P].
H·西皮拉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
H·西皮拉
;
A·佩里
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
A·佩里
;
T·科斯基宁
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0
机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
T·科斯基宁
.
:CN112313503B
,2024-07-05
[2]
X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
论文数:
0
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0
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0
机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
T·科斯基宁
;
A·佩里
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
A·佩里
;
H·西皮拉
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0
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0
机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
H·西皮拉
.
:CN112292593B
,2024-10-25
[3]
X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
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0
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T·科斯基宁
;
A·佩里
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A·佩里
;
H·西皮拉
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0
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0
H·西皮拉
.
中国专利
:CN112292593A
,2021-01-29
[4]
X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
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0
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
T·科斯基宁
;
A·佩里
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
A·佩里
;
H·西皮拉
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0
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
H·西皮拉
.
:CN112313505B
,2025-01-03
[5]
X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
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T·科斯基宁
;
A·佩里
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A·佩里
;
H·西皮拉
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0
H·西皮拉
.
中国专利
:CN112313505A
,2021-02-02
[6]
具有多个测量通道的X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
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T·科斯基宁
;
A·佩里
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A·佩里
;
H·西皮拉
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H·西皮拉
.
中国专利
:CN112313506A
,2021-02-02
[7]
具有多个测量通道的X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法
[P].
T·科斯基宁
论文数:
0
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0
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
T·科斯基宁
;
A·佩里
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0
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0
机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
A·佩里
;
H·西皮拉
论文数:
0
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机构:
美卓奥图泰芬兰有限公司
美卓奥图泰芬兰有限公司
H·西皮拉
.
:CN112313506B
,2024-10-25
[8]
X射线荧光分析仪
[P].
苏显月
论文数:
0
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
苏显月
;
闫晓晖
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
闫晓晖
;
拉海忠
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
拉海忠
;
王莉菲
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
王莉菲
;
刘慧娟
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
刘慧娟
.
中国专利
:CN222994369U
,2025-06-17
[9]
X射线荧光分析仪
[P].
朴正权
论文数:
0
引用数:
0
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0
朴正权
.
中国专利
:CN113950621A
,2022-01-18
[10]
荧光X射线分析仪、荧光X射线分析方法及分析程序
[P].
臼井康博
论文数:
0
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0
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0
臼井康博
.
中国专利
:CN1837796A
,2006-09-27
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