硬掩膜层的形成方法及刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710170950.9

申请日：

2007-11-21

公开(公告)号：

CN101441996B

公开(公告)日：

2009-05-27

发明(设计)人：

安辉

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21033

IPC分类号：

H01L21027 H01L213105 H01L21311

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

逯长明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-27	公开	公开
2012-01-25	授权	授权
2009-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

无定形碳硬掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P].

张彬 ;

邓浩 .

中国专利 :CN103137443B ,2013-06-05

[2]

掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P].

徐载景 ;

张迎春 .

中国专利 :CN102097362A ,2011-06-15

[3]

硬掩膜层刻蚀方法 [P].

齐龙茵 ;

奚裴 .

中国专利 :CN101777493A ,2010-07-14

[4]

硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P].

裴凯 ;

王晓雯 ;

王兆祥 ;

梁洁 ;

王文渊 ;

刘少康 .

中国专利 :CN120809574B ,2025-11-21

[5]

硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P].

裴凯 ;

王晓雯 ;

王兆祥 ;

梁洁 ;

王文渊 ;

刘少康 .

中国专利 :CN120809574A ,2025-10-17

[6]

掩膜层的刻蚀方法、刻蚀装置及层间介质层的刻蚀方法 [P].

凯文皮尔斯 .

中国专利 :CN102543687B ,2012-07-04

[7]

硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法 [P].

林栽范 .

中国专利 :CN114424122A ,2022-04-29

[8]

硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法 [P].

林栽范 .

韩国专利 :CN114424122B ,2025-12-12

[9]

金属硬掩膜刻蚀方法 [P].

张宇 ;

黄亚辉 ;

贺小明 ;

刘钊成 .

中国专利 :CN112687537A ,2021-04-20

[10]

金属硬掩膜刻蚀方法 [P].

张宇 ;

黄亚辉 ;

贺小明 ;

刘钊成 .

中国专利 :CN112687537B ,2024-05-17

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