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金属硬掩膜刻蚀方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011499448.4
申请日：
2020-12-17
公开(公告)号：
CN112687537A
公开(公告)日：
2021-04-20
发明(设计)人：
张宇 黄亚辉 贺小明 刘钊成
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
H01L21308
IPC分类号：
H01L213065
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;王婷
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-04-20 公开 公开
2021-05-07 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/308 申请日:20201217
共 50 条
[1]
金属硬掩膜刻蚀方法 [P]. 
张宇 ;
黄亚辉 ;
贺小明 ;
刘钊成 .
中国专利 :CN112687537B ,2024-05-17
[2]
背面金属格栅的硬掩膜的刻蚀方法 [P]. 
张守龙 ;
任婷婷 ;
姚道州 ;
杨鑫 ;
杜保田 ;
汪健 ;
惠科石 ;
王玉新 ;
赵正元 .
中国专利 :CN119947287B ,2025-09-26
[3]
背面金属格栅的硬掩膜的刻蚀方法 [P]. 
张守龙 ;
任婷婷 ;
姚道州 ;
杨鑫 ;
杜保田 ;
汪健 ;
惠科石 ;
王玉新 ;
赵正元 .
中国专利 :CN119947287A ,2025-05-06
[4]
硬掩膜层刻蚀方法 [P]. 
齐龙茵 ;
奚裴 .
中国专利 :CN101777493A ,2010-07-14
[5]
硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P]. 
裴凯 ;
王晓雯 ;
王兆祥 ;
梁洁 ;
王文渊 ;
刘少康 .
中国专利 :CN120809574B ,2025-11-21
[6]
硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P]. 
裴凯 ;
王晓雯 ;
王兆祥 ;
梁洁 ;
王文渊 ;
刘少康 .
中国专利 :CN120809574A ,2025-10-17
[7]
金属硬掩膜及其制备方法和刻蚀方法 [P]. 
黄耀贤 ;
黄俊宪 .
中国专利 :CN119153326A ,2024-12-17
[8]
浮栅硬掩膜层沟槽及其刻蚀方法 [P]. 
张振兴 .
中国专利 :CN118571753A ,2024-08-30
[9]
一种金属硬掩膜层的刻蚀方法 [P]. 
吴志刚 ;
秦凡凯 .
中国专利 :CN120767202A ,2025-10-10
[10]
硬掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P]. 
安辉 .
中国专利 :CN101441996B ,2009-05-27
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