硬掩膜层刻蚀方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010102334.1
申请日
2010-01-28
公开(公告)号
CN101777493A
公开(公告)日
2010-07-14
发明(设计)人
齐龙茵 奚裴
申请人
申请人地址
201203上海市张江高科技圆区郭守敬路818号
IPC主分类号
H01L21311
IPC分类号
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
郑玮
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
金属硬掩膜刻蚀方法 [P]. 
张宇 ;
黄亚辉 ;
贺小明 ;
刘钊成 .
中国专利 :CN112687537A ,2021-04-20
[2]
金属硬掩膜刻蚀方法 [P]. 
张宇 ;
黄亚辉 ;
贺小明 ;
刘钊成 .
中国专利 :CN112687537B ,2024-05-17
[3]
硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P]. 
裴凯 ;
王晓雯 ;
王兆祥 ;
梁洁 ;
王文渊 ;
刘少康 .
中国专利 :CN120809574B ,2025-11-21
[4]
硬掩膜刻蚀方法及刻蚀设备 [P]. 
裴凯 ;
王晓雯 ;
王兆祥 ;
梁洁 ;
王文渊 ;
刘少康 .
中国专利 :CN120809574A ,2025-10-17
[5]
浮栅硬掩膜层沟槽及其刻蚀方法 [P]. 
张振兴 .
中国专利 :CN118571753A ,2024-08-30
[6]
无定形碳硬掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P]. 
张彬 ;
邓浩 .
中国专利 :CN103137443B ,2013-06-05
[7]
硬掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P]. 
安辉 .
中国专利 :CN101441996B ,2009-05-27
[8]
掩膜层的形成方法及刻蚀方法 [P]. 
徐载景 ;
张迎春 .
中国专利 :CN102097362A ,2011-06-15
[9]
硬掩膜层结构及低K介质层刻蚀方法 [P]. 
符雅丽 ;
张海洋 .
中国专利 :CN103377884A ,2013-10-30
[10]
一种金属硬掩膜层的刻蚀方法 [P]. 
吴志刚 ;
秦凡凯 .
中国专利 :CN120767202A ,2025-10-10