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LDMOS器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711344090.6
申请日
:
2017-12-15
公开(公告)号
:
CN109935633B
公开(公告)日
:
2019-06-25
发明(设计)人
:
肖胜安
申请人
:
申请人地址
:
518057 广东省深圳市南山区高新区中区科丰路2号特发信息港B栋601-602单元
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L2910
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
郭四华
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-06-25
公开
公开
2019-07-19
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20171215
2022-07-08
授权
授权
共 50 条
[1]
开关LDMOS器件及其制造方法
[P].
钱文生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
钱文生
.
中国专利
:CN111554579A
,2020-08-18
[2]
LDMOS器件
[P].
张磊
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0
张磊
;
向泱
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0
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0
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0
向泱
.
中国专利
:CN102169903A
,2011-08-31
[3]
射频LDMOS器件
[P].
蔡莹
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0
蔡莹
;
周正良
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0
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周正良
.
中国专利
:CN105374879A
,2016-03-02
[4]
集成双纵向沟道SOI LDMOS器件单元
[P].
张海鹏
论文数:
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0
张海鹏
;
许生根
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许生根
;
陈波
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0
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0
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陈波
;
李浩
论文数:
0
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0
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0
李浩
.
中国专利
:CN102097482A
,2011-06-15
[5]
一种超低比导通电阻的LDMOS器件及其制造方法
[P].
易波
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易波
;
伍争
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伍争
.
中国专利
:CN113394298A
,2021-09-14
[6]
LDMOS器件
[P].
颜树范
论文数:
0
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0
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0
颜树范
.
中国专利
:CN107819026B
,2018-03-20
[7]
一种具有阶梯型沟槽的LDMOS器件
[P].
任敏
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任敏
;
林育赐
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林育赐
;
谢驰
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谢驰
;
李佳驹
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李佳驹
;
李泽宏
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李泽宏
;
张波
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0
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0
张波
.
中国专利
:CN107546274A
,2018-01-05
[8]
集成纵向沟道SOI LDMOS器件单元
[P].
张海鹏
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张海鹏
;
张亮
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张亮
;
苏步春
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苏步春
;
张帆
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张帆
;
刘国华
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0
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刘国华
;
徐丽燕
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0
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徐丽燕
.
中国专利
:CN201374335Y
,2009-12-30
[9]
N型LDMOS器件及工艺方法
[P].
石晶
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石晶
;
钱文生
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钱文生
;
刘冬华
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刘冬华
;
胡君
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胡君
;
段文婷
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0
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0
段文婷
.
中国专利
:CN105140289A
,2015-12-09
[10]
一种集成双纵向沟道SOI LDMOS器件单元
[P].
张海鹏
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张海鹏
;
许生根
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许生根
;
陈波
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陈波
;
李浩
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0
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0
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0
李浩
.
中国专利
:CN201946602U
,2011-08-24
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