可改善雪崩能力的超结半导体器件的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310491435.6
申请日
2013-10-18
公开(公告)号
CN103560086B
公开(公告)日
2014-02-05
发明(设计)人
姜贯军 陈桥梁 陈仕全 马治军 杜忠鹏
申请人
申请人地址
710021 陕西省西安市凤城十二路1号出口加工区
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L21266 H01L21331
代理机构
西安新思维专利商标事务所有限公司 61114
代理人
李罡
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
超结半导体器件 [P]. 
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大西泰彦 .
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[2]
超结半导体器件的终端结构及超结半导体器件 [P]. 
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廖巍 .
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[3]
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王荣华 .
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[4]
超结半导体器件的制备方法 [P]. 
赵勇 ;
廖巍 .
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[5]
制造超结半导体器件的方法 [P]. 
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[6]
超结半导体器件 [P]. 
田村隆博 ;
大西泰彦 ;
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[7]
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[8]
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[9]
改善雪崩耐量的超结MOS器件及制备方法、芯片 [P]. 
原一帆 .
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[10]
增强反向雪崩能力的半导体器件及制备方法 [P]. 
吴迪 ;
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张凡文 ;
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