黑硅层制作方法及黑硅PIN光电探测器制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510174161.7
申请日
2015-04-14
公开(公告)号
CN104900752A
公开(公告)日
2015-09-09
发明(设计)人
廖乃镘 李仁豪 向鹏飞 黄烈云 李华高
申请人
申请人地址
400060 重庆市南岸区花园路14号电子44所
IPC主分类号
H01L3118
IPC分类号
H01L213065
代理机构
重庆辉腾律师事务所 50215
代理人
侯懋琪
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
黑硅纳米PIN光电探测器结构及其制备方法 [P]. 
陶科 ;
贾锐 ;
孙恒超 ;
戴小宛 ;
姜帅 ;
周颖 .
中国专利 :CN108321243B ,2018-07-24
[2]
以黑硅为光敏层的Si-APD光电探测器及其制备方法 [P]. 
李伟 ;
王垠 ;
郭安然 ;
余峰 ;
王涛 ;
蒋亚东 .
中国专利 :CN103137773A ,2013-06-05
[3]
垂直型ITO/黑硅光电探测器及其制备方法 [P]. 
张玉平 ;
唐利斌 ;
邓功荣 ;
吴刚 ;
袁绶章 ;
王博 ;
宋立媛 ;
赵鹏 ;
王静宇 ;
岳彪 ;
王海澎 ;
刘燕 ;
辛永刚 ;
王琼芳 ;
苏润洪 ;
魏虹 ;
姬玉龙 ;
黄俊博 ;
李红福 ;
李轶民 ;
敖雨 ;
彭秋思 ;
吴强 .
中国专利 :CN116435384B ,2025-11-28
[4]
硅基高速高响应PIN光电探测器及其制作方法 [P]. 
向勇军 ;
张鎏 ;
黄烈云 .
中国专利 :CN109686805B ,2019-04-26
[5]
一种以黑硅材料为光敏层的背照式Si-PIN光电探测器及其制备方法 [P]. 
李伟 ;
黄璐 ;
赵国栋 ;
吴志明 ;
蒋亚东 .
中国专利 :CN102176470A ,2011-09-07
[6]
硅基光电探测器及其制作方法 [P]. 
盛振 ;
武爱民 ;
仇超 ;
赵瑛璇 ;
高腾 ;
甘甫烷 ;
王曦 .
中国专利 :CN108878544A ,2018-11-23
[7]
基于黑硅和量子点的Si-APD光电探测器及其制备方法 [P]. 
陆文强 ;
张昆 ;
付勰 ;
康帅 ;
冯双龙 .
中国专利 :CN110416332A ,2019-11-05
[8]
基于黑硅和量子点的Si-APD光电探测器及其制备方法 [P]. 
陆文强 ;
张昆 ;
付勰 ;
康帅 ;
冯双龙 .
中国专利 :CN110416332B ,2024-01-19
[9]
一种黑硅MSM结构光电探测器及其制备方法 [P]. 
蒋亚东 ;
赵国栋 ;
吴志明 ;
李伟 ;
姜晶 ;
张安元 ;
郭正宇 .
中国专利 :CN101969080A ,2011-02-09
[10]
一种硅基锗光电探测器及制作方法 [P]. 
欧阳文森 ;
王胜林 ;
黄珊 ;
余威明 .
中国专利 :CN120676752A ,2025-09-19