双重图案化的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310198556.1

申请日：

2013-05-24

公开(公告)号：

CN103681255A

公开(公告)日：

2014-03-26

发明(设计)人：

李镇玮刘弘仁

申请人：

申请人地址：

中国台湾桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号

IPC主分类号：

H01L21033

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

臧建明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-20	授权	授权
2014-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581689740 IPC(主分类):H01L 21/033 专利申请号:2013101985561 申请日:20130524

共 50 条

[1]

双重图案化光刻技术 [P].

C·H·华莱士 ;

S·希瓦库马 ;

M·L·廷吉 ;

C·D·穆纳辛哈 ;

N·M·拉哈尔-乌拉比 .

中国专利 :CN104025256B ,2014-09-03

[2]

用于双重图案化的方法和材料 [P].

P-F·傅 ;

E·S·梅尔 ;

杰森·D·苏尔 .

中国专利 :CN102439523B ,2012-05-02

[3]

使用双重图案化的光致抗蚀剂图像成形方法 [P].

R·R·达梅尔 ;

D·J·阿布达拉 ;

E·阿勒梅 ;

M·帕德马纳本 .

中国专利 :CN101981501A ,2011-02-23

[4]

图案化的方法 [P].

陈薏新 ;

王明俊 ;

廖俊雄 ;

杨闵杰 .

中国专利 :CN101188188A ,2008-05-28

[5]

图案化方法 [P].

施仁杰 ;

叶孝蔚 .

中国专利 :CN101556437A ,2009-10-14

[6]

图案化方法 [P].

王子嵩 .

中国专利 :CN106298507A ,2017-01-04

[7]

光刻图案化的方法 [P].

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108227409B ,2018-06-29

[8]

光刻图案化的方法 [P].

张莉琳 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108333866B ,2018-07-27

[9]

光刻图案化的方法 [P].

陈彦豪 ;

赖韦翰 ;

王建惟 ;

林进祥 .

中国专利 :CN108121154A ,2018-06-05

[10]

图案化底层结构的方法 [P].

陈韵安 ;

黄筱珊 ;

林晓江 .

中国专利 :CN117995658A ,2024-05-07

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