蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99813592.5

申请日：

1999-11-22

公开(公告)号：

CN100595893C

公开(公告)日：

2001-12-26

发明(设计)人：

毛塚健彦陶山诚板野充司

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01L21306

IPC分类号：

H01L21308 C09K1308

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

林潮;王维玉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-12-26	公开	公开
2002-01-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-03-24	授权	授权
2018-11-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/306 申请日:19991122 授权公告日:20100324 终止日期:20171122

共 50 条

[1]

蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法 [P].

毛塚健彦 ;

陶山诚 ;

板野充司 .

中国专利 :CN1167110C ,2001-12-26

[2]

用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 [P].

倪植森 ;

张少波 ;

陈诚 ;

杨金发 ;

彭程 ;

许波 ;

钟汝梅 ;

李俊琛 ;

邵帅 ;

罗丹 .

中国专利 :CN112551909A ,2021-03-26

[3]

蚀刻溶液和蚀刻方法 [P].

彼得·法斯 ;

艾哈尔·米尔因克 .

中国专利 :CN101622697A ,2010-01-06

[4]

用于通过纹理蚀刻制造涂层物体的方法 [P].

奥利弗·卡贝茨 ;

洛塔尔·赫利策 ;

汉斯约尔格·韦斯 ;

迈克尔·普尔温斯 .

中国专利 :CN102473743B ,2012-05-23

[5]

氢氟酸蚀刻制程废酸资源化方法 [P].

巫协森 ;

陈松章 .

中国专利 :CN105951102A ,2016-09-21

[6]

蚀刻溶液组合物和使用该蚀刻溶液组合物的湿蚀刻方法 [P].

金铉卓 ;

林廷训 ;

李昌一 ;

宋忠植 ;

李珍旭 .

中国专利 :CN104039925A ,2014-09-10

[7]

蚀刻溶液，用于制造压电元件的方法以及蚀刻方法 [P].

藤井隆满 ;

向山明博 .

中国专利 :CN103666477A ,2014-03-26

[8]

氢氟酸蚀刻制程废酸回收检测装置 [P].

王明 ;

王晶 ;

沈飞 .

中国专利 :CN210166373U ,2020-03-20

[9]

用于多层铜和钼的蚀刻溶液及使用该蚀刻溶液的蚀刻方法 [P].

金圣秀 ;

崔容硕 ;

曹奎哲 ;

蔡基成 ;

权五南 ;

李坰默 ;

黄龙燮 ;

李承庸 .

中国专利 :CN1510169A ,2004-07-07

[10]

湿蚀刻溶液 [P].

罗贞仁 ;

朴明国 ;

梁浩锡 .

中国专利 :CN102225874A ,2011-10-26

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