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用于多层铜和钼的蚀刻溶液及使用该蚀刻溶液的蚀刻方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200310118526.1
申请日
:
2003-12-12
公开(公告)号
:
CN1510169A
公开(公告)日
:
2004-07-07
发明(设计)人
:
金圣秀
崔容硕
曹奎哲
蔡基成
权五南
李坰默
黄龙燮
李承庸
申请人
:
申请人地址
:
韩国汉城
IPC主分类号
:
C23F118
IPC分类号
:
C23F126
H01L2128
H01L21306
H01L2144
H01L21465
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人
:
徐金国;陈红
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-06-03
授权
授权
2006-02-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-07-07
公开
公开
共 50 条
[1]
蚀刻溶液组合物和使用该蚀刻溶液组合物的湿蚀刻方法
[P].
金铉卓
论文数:
0
引用数:
0
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金铉卓
;
林廷训
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林廷训
;
李昌一
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李昌一
;
宋忠植
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宋忠植
;
李珍旭
论文数:
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李珍旭
.
中国专利
:CN104039925A
,2014-09-10
[2]
用于蚀刻铜和回收废蚀刻溶液的方法
[P].
哈拉尔德·奥特图思
论文数:
0
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哈拉尔德·奥特图思
.
中国专利
:CN101688315B
,2010-03-31
[3]
蚀刻溶液和蚀刻方法
[P].
彼得·法斯
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彼得·法斯
;
艾哈尔·米尔因克
论文数:
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艾哈尔·米尔因克
.
中国专利
:CN101622697A
,2010-01-06
[4]
用于钼的化学蚀刻溶液
[P].
徐海波
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徐海波
;
王佳
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王佳
;
王伟
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王伟
;
姜应律
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姜应律
;
王燕华
论文数:
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王燕华
.
中国专利
:CN100376721C
,2006-03-08
[5]
包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
[P].
着能真
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着能真
;
渊上真一郎
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渊上真一郎
;
鬼头佑典
论文数:
0
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鬼头佑典
;
小佐野善秀
论文数:
0
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小佐野善秀
.
中国专利
:CN106255777A
,2016-12-21
[6]
蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法
[P].
吴豪旭
论文数:
0
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吴豪旭
.
中国专利
:CN111074278A
,2020-04-28
[7]
用于铜钼金属膜层的蚀刻液及蚀刻方法
[P].
赵芬利
论文数:
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赵芬利
.
中国专利
:CN109023370A
,2018-12-18
[8]
一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液及蚀刻方法
[P].
李涛
论文数:
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
李涛
;
章佳寅
论文数:
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
章佳寅
;
徐杨
论文数:
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
徐杨
;
沈夏军
论文数:
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
沈夏军
;
顾梦佳
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
顾梦佳
;
任奕宇
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
任奕宇
;
朱龙
论文数:
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
朱龙
.
中国专利
:CN117737733A
,2024-03-22
[9]
用于铜/钼膜层的金属蚀刻液及其蚀刻方法
[P].
武岳
论文数:
0
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武岳
;
雍玮娜
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雍玮娜
.
中国专利
:CN106498398A
,2017-03-15
[10]
用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻剂组合物及其用于蚀刻铜与钼的金属蚀刻方法
[P].
罗致远
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罗致远
;
吴光耀
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吴光耀
;
黄若涵
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黄若涵
;
廖怡颖
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廖怡颖
;
卢厚德
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卢厚德
.
中国专利
:CN104278274A
,2015-01-14
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