对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710073921.4

申请日：

2017-02-10

公开(公告)号：

CN106842837A

公开(公告)日：

2017-06-13

发明(设计)人：

张思凯汪栋万冀豫

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司 11438

代理人：

阚梓瑄;王卫忠

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101731984238 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2017100739214 申请日:20170210
2017-06-13	公开	公开
2019-12-27	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 9/00 申请公布日:20170613

共 50 条

[1]

形成光掩模的玻璃基板及制造方法 [P].

原田大实 ;

森川护 ;

竹内正树 ;

柴野由纪夫 .

中国专利 :CN102096311A ,2011-06-15

[2]

玻璃基板的对位装置及其对位方法 [P].

巫欣荣 .

中国专利 :CN111546265A ,2020-08-18

[3]

对位标记制作方法、基板、彩膜基板及显示面板 [P].

李文波 .

中国专利 :CN111293104A ,2020-06-16

[4]

对位标识及在曝光工艺中采用该对位标识制作工件的方法 [P].

于航 .

中国专利 :CN102692831B ,2012-09-26

[5]

玻璃基板搬运方法和玻璃基板层叠体形成方法 [P].

山先达也 ;

赤堀正宪 .

中国专利 :CN103010742A ,2013-04-03

[6]

用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法 [P].

植松照博 .

中国专利 :CN104909581A ,2015-09-16

[7]

用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法 [P].

植松照博 ;

田上胜弥 .

中国专利 :CN105676601A ,2016-06-15

[8]

玻璃基板上的薄膜形成方法以及薄膜被覆玻璃基板 [P].

尾花茂树 ;

田中启介 ;

田中博一 ;

辻本光 ;

田丸博 ;

高滨孝一 .

中国专利 :CN1732134A ,2006-02-08

[9]

具冷弯玻璃基板的车辆内部系统及其形成方法 [P].

迈克尔·蒂莫西·布伦南 ;

阿图尔·库马尔 ;

孙亚伟 .

中国专利 :CN112566782A ,2021-03-26

[10]

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模 [P].

木下一树 ;

二岛悟 ;

青木阳祐 ;

板仓敬二郎 .

中国专利 :CN104620176B ,2015-05-13

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