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用于在处理室中处理微电子衬底的磁悬浮且旋转的卡盘

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780068808.5
申请日：
2017-11-08
公开(公告)号：
CN109923659A
公开(公告)日：
2019-06-21
发明(设计)人：
威廉·P·尹霍费尔 肖恩·穆尔 伦斯·凡埃尔森
申请人：
申请人地址：
美国明尼苏达州
IPC主分类号：
H01L21687
IPC分类号：
H01L21683 H01L2167 H01L2102
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
杨铁成;杨林森
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2019-12-03 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/687 申请日:20171108
2019-06-21 公开 公开
共 50 条
[1]
用于在处理室中处理微电子衬底的磁悬浮且旋转的卡盘 [P]. 
威廉·P·尹霍费尔 ;
肖恩·穆尔 ;
伦斯·凡埃尔森 .
美国专利 :CN109923659B ,2024-03-12
[2]
用于在处理室中处理微电子基板的平移和旋转卡盘 [P]. 
爱德华·迪宁·汉日利克 ;
迈克尔·格林哈根 ;
蒂姆·W·赫布斯特 .
中国专利 :CN110036468A ,2019-07-19
[3]
用于微电子封装衬底的多个表面处理 [P]. 
吴涛 ;
C·古鲁墨菲 ;
R·A·奥尔梅多 .
中国专利 :CN102598258A ,2012-07-18
[4]
用于处理衬底的载体装置和微电子器件衬底处理装置 [P]. 
H·J·C·托克 ;
A·Q·杨 ;
S·韦伯斯特 .
中国专利 :CN204632730U ,2015-09-09
[5]
用于监测和控制微电子衬底的处理的系统 [P]. 
于尔格·斯塔尔 .
德国专利 :CN222672974U ,2025-03-25
[6]
用于处理微电子工件的设备 [P]. 
J·D·柯林斯 ;
D·德科雷克 ;
T·A·加斯特 ;
A·D·罗斯 .
中国专利 :CN104319249B ,2015-01-28
[7]
用于处理微电子工件的系统 [P]. 
杰弗里·M·劳尔哈斯 ;
吉米·D·柯林斯 ;
特蕾西·A·加斯特 ;
艾伦·D·罗斯 .
中国专利 :CN102683249B ,2012-09-19
[8]
用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法 [P]. 
杰弗里·W·布特鲍 .
中国专利 :CN110268513A ,2019-09-20
[9]
用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法 [P]. 
杰弗里·W·布特鲍 .
美国专利 :CN110268513B ,2025-02-18
[10]
微电子工艺处理设备和用于其的反应腔室 [P]. 
赵晋荣 ;
南建辉 ;
白志民 .
中国专利 :CN103915306B ,2014-07-09
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