用于在处理室中处理微电子基板的平移和旋转卡盘

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780073187.X

申请日：

2017-11-28

公开(公告)号：

CN110036468A

公开(公告)日：

2019-07-19

发明(设计)人：

爱德华·迪宁·汉日利克迈克尔·格林哈根蒂姆·W·赫布斯特

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

H01L21687

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

刘雯鑫;杨林森

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/687 申请日:20171128
2019-07-19	公开	公开

共 50 条

[1]

用于在处理室中处理微电子衬底的磁悬浮且旋转的卡盘 [P].

威廉·P·尹霍费尔 ;

肖恩·穆尔 ;

伦斯·凡埃尔森 .

美国专利 :CN109923659B ,2024-03-12

[2]

用于在处理室中处理微电子衬底的磁悬浮且旋转的卡盘 [P].

威廉·P·尹霍费尔 ;

肖恩·穆尔 ;

伦斯·凡埃尔森 .

中国专利 :CN109923659A ,2019-06-21

[3]

微电子工艺处理设备和用于其的反应腔室 [P].

赵晋荣 ;

南建辉 ;

白志民 .

中国专利 :CN103915306B ,2014-07-09

[4]

用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法 [P].

杰弗里·W·布特鲍 .

中国专利 :CN110268513A ,2019-09-20

[5]

用于在工艺室中旋转和平移衬底的系统和方法 [P].

杰弗里·W·布特鲍 .

美国专利 :CN110268513B ,2025-02-18

[6]

用于处理微电子工件的设备和方法 [P].

J·D·柯林斯 ;

D·德科雷克 ;

T·A·加斯特 ;

A·D·罗斯 .

中国专利 :CN104299928B ,2015-01-21

[7]

用于处理微电子工件的设备和方法 [P].

J·D·柯林斯 ;

D·德科雷克 ;

T·A·加斯特 ;

A·D·罗斯 .

中国专利 :CN102569137B ,2012-07-11

[8]

用于处理微电子工件的设备 [P].

J·D·柯林斯 ;

D·德科雷克 ;

T·A·加斯特 ;

A·D·罗斯 .

中国专利 :CN104319249B ,2015-01-28

[9]

用于处理微电子工件的系统 [P].

杰弗里·M·劳尔哈斯 ;

吉米·D·柯林斯 ;

特蕾西·A·加斯特 ;

艾伦·D·罗斯 .

中国专利 :CN102683249B ,2012-09-19

[10]

用于在清洁模块中处理基板的方法和装置 [P].

J·兰加拉简 ;

E·戈卢博夫斯基 ;

E·维拉兹克兹 ;

A·S·布兰克 ;

S·M·苏尼卡 ;

B·C·贾格纳什 .

美国专利 :CN119948609A ,2025-05-06

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