用于化学处理半导体衬底的设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721476130.8

申请日：

2017-11-07

公开(公告)号：

CN208433367U

公开(公告)日：

2019-01-25

发明(设计)人：

I.梅尔尼克 P.法思 W.约斯

申请人：

申请人地址：

德国康斯坦茨

IPC主分类号：

H01L21306

IPC分类号：

H01L2167 H01L3118

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

侯宇

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-25	授权	授权

共 50 条

[1]

用于化学处理半导体衬底的装置 [P].

彼得·法思 ;

斯蒂芬·凯勒 ;

伊霍·梅尔尼克 .

中国专利 :CN205828351U ,2016-12-21

[2]

用于化学处理半导体衬底的方法和设备 [P].

I.梅尔尼克 ;

P.法思 ;

W.约斯 .

中国专利 :CN108735595A ,2018-11-02

[3]

用于化学处理半导体衬底的设备及机械式转送单元 [P].

I.梅尔尼克 ;

P.法思 ;

W.约斯 ;

O.沃伊特 ;

J.荣格-凯尼格 .

中国专利 :CN207611751U ,2018-07-13

[4]

用于化学处理半导体衬底的装置和方法 [P].

彼得·法思 ;

斯蒂芬·凯勒 ;

伊霍·梅尔尼克 .

中国专利 :CN106024614A ,2016-10-12

[5]

半导体显示衬底的化学清洗设备 [P].

陆雄 ;

王文彬 ;

魏航 ;

陶金 ;

周文 .

中国专利 :CN211965189U ,2020-11-20

[6]

用于化学处理带有被锯割形成的表面结构的半导体衬底的设备 [P].

I.梅尔尼克 ;

P.法思 ;

W.约斯 .

中国专利 :CN207993803U ,2018-10-19

[7]

处理半导体衬底的设备以及处理半导体衬底的方法 [P].

徐暐智 ;

庄凯麟 ;

简渊基 ;

杨政辉 ;

刘俊秀 .

中国专利 :CN106601649A ,2017-04-26

[8]

半导体衬底的化学溶液处理装置 [P].

渡边薰 ;

石川典夫 ;

青木秀充 ;

森清人 .

中国专利 :CN1434492A ,2003-08-06

[9]

用于处理半导体衬底的设备和方法 [P].

A·韦迪 ;

G·伯尼希 ;

N·厄施勒 ;

C·施塔尔胡特 .

中国专利 :CN109216234A ,2019-01-15

[10]

用于处理半导体衬底的设备及方法 [P].

P·沃勒 ;

R·L·沃尔博夫 ;

M·科林 .

英国专利 :CN120127023A ,2025-06-10

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