沟槽型功率器件栅氧化层的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410043035.3
申请日
2014-01-29
公开(公告)号
CN104810268A
公开(公告)日
2015-07-29
发明(设计)人
李理 马万里 赵圣哲
申请人
申请人地址
100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦9层
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
刘芳
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽型功率器件的沟槽栅结构 [P]. 
常虹 .
中国专利 :CN211455690U ,2020-09-08
[2]
功率MOSFET器件栅氧化层的制备方法 [P]. 
邹有彪 ;
王全 ;
倪侠 ;
张荣 ;
徐玉豹 .
中国专利 :CN115020487A ,2022-09-06
[3]
沟槽氧化层和沟槽栅的制备方法及半导体器件 [P]. 
李诚瞻 ;
罗烨辉 ;
郑昌伟 ;
赵艳黎 ;
丁杰钦 ;
焦莎莎 ;
罗海辉 .
中国专利 :CN112635315A ,2021-04-09
[4]
沟槽氧化层和沟槽栅的制备方法及半导体器件 [P]. 
李诚瞻 ;
罗烨辉 ;
郑昌伟 ;
赵艳黎 ;
丁杰钦 ;
焦莎莎 ;
罗海辉 .
中国专利 :CN112635315B ,2024-05-28
[5]
一种屏蔽栅沟槽型功率器件的制备方法 [P]. 
兰总金 .
中国专利 :CN120751754A ,2025-10-03
[6]
沟槽式功率器件中沟槽底部厚栅氧化层的形成方法 [P]. 
冯大贵 .
中国专利 :CN102456561A ,2012-05-16
[7]
沟槽型功率器件的沟槽栅结构及其制造方法 [P]. 
常虹 .
中国专利 :CN113517341A ,2021-10-19
[8]
一种屏蔽栅沟槽型功率器件的制备方法 [P]. 
兰总金 .
中国专利 :CN120751723A ,2025-10-03
[9]
一种屏蔽栅沟槽型功率器件的制备方法 [P]. 
兰总金 .
中国专利 :CN120751723B ,2025-11-18
[10]
一种屏蔽栅沟槽型功率器件的制备方法 [P]. 
兰总金 ;
李秀柱 .
中国专利 :CN120812975A ,2025-10-17