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形成半导体器件的方法和半导体器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910821775.8
申请日
:
2019-09-02
公开(公告)号
:
CN111129044A
公开(公告)日
:
2020-05-08
发明(设计)人
:
曹淳凯
卢玠甫
周世培
吴尉壮
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L27146
IPC分类号
:
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-06-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/146 申请日:20190902
2020-05-08
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
薛仁智
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薛仁智
;
洪志昌
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洪志昌
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尹宗凡
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尹宗凡
;
邱意为
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邱意为
.
中国专利
:CN110660743A
,2020-01-07
[2]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
何嘉玮
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何嘉玮
;
徐俊伟
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徐俊伟
;
沈稘翔
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沈稘翔
;
刘启人
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刘启人
;
林易生
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林易生
;
郑仰钧
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郑仰钧
;
洪伟伦
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洪伟伦
;
陈亮光
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陈亮光
;
陈科维
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陈科维
.
中国专利
:CN110970392B
,2020-04-07
[3]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱峯庆
;
李威养
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李威养
;
杨丰诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨丰诚
;
陈燕铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈燕铭
.
中国专利
:CN113284849B
,2025-05-27
[4]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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朱峯庆
;
李威养
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李威养
;
杨丰诚
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杨丰诚
;
陈燕铭
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陈燕铭
.
中国专利
:CN113284849A
,2021-08-20
[5]
半导体器件制造方法和半导体器件
[P].
木村雅俊
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木村雅俊
.
中国专利
:CN105390445A
,2016-03-09
[6]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
陈彦羽
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈彦羽
;
程仲良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程仲良
.
中国专利
:CN112542422B
,2025-09-26
[7]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
江宗宪
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江宗宪
;
黄育智
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黄育智
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郭婷婷
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郭婷婷
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戴志轩
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戴志轩
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吴邦立
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吴邦立
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曾英诚
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曾英诚
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赖季晖
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赖季晖
;
刘家宏
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刘家宏
;
蔡豪益
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蔡豪益
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刘重希
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刘重希
;
余振华
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余振华
.
中国专利
:CN110957229B
,2020-04-03
[8]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱峯庆
;
李威养
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李威养
;
杨丰诚
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨丰诚
;
陈燕铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈燕铭
.
中国专利
:CN113284850B
,2025-08-22
[9]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
蔡崴宇
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蔡崴宇
;
粘富尧
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粘富尧
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黄宏纬
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黄宏纬
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李昌盛
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李昌盛
.
中国专利
:CN110970492A
,2020-04-07
[10]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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朱峯庆
;
李威养
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李威养
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杨丰诚
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杨丰诚
;
陈燕铭
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陈燕铭
.
中国专利
:CN113284850A
,2021-08-20
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