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半导体器件和形成半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910912553.7
申请日
:
2019-09-25
公开(公告)号
:
CN110957229B
公开(公告)日
:
2020-04-03
发明(设计)人
:
江宗宪
黄育智
郭婷婷
戴志轩
吴邦立
曾英诚
赖季晖
刘家宏
蔡豪益
刘重希
余振华
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L2156
IPC分类号
:
H01L2331
H01L2160
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-04-03
公开
公开
2020-05-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/56 申请日:20190925
2021-08-24
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件和形成半导体器件方法
[P].
黄子松
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黄子松
;
曾明鸿
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曾明鸿
;
林彦良
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林彦良
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蔡豪益
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蔡豪益
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蔡及铭
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蔡及铭
;
刘重希
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刘重希
;
林志伟
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林志伟
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何明哲
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何明哲
.
中国专利
:CN115579341A
,2023-01-06
[2]
半导体器件和形成半导体器件方法
[P].
黄子松
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黄子松
;
曾明鸿
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曾明鸿
;
林彦良
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林彦良
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蔡豪益
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蔡豪益
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蔡及铭
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蔡及铭
;
刘重希
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刘重希
;
林志伟
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林志伟
;
何明哲
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何明哲
.
中国专利
:CN112018061A
,2020-12-01
[3]
形成半导体器件的方法和半导体器件
[P].
曹淳凯
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曹淳凯
;
卢玠甫
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卢玠甫
;
周世培
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周世培
;
吴尉壮
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吴尉壮
.
中国专利
:CN111129044A
,2020-05-08
[4]
半导体器件和用于形成半导体器件的方法
[P].
威廉·弗雷德里克·阿德里亚努斯·贝斯林
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威廉·弗雷德里克·阿德里亚努斯·贝斯林
;
卡斯珀·范德阿福尔特
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卡斯珀·范德阿福尔特
;
昆拉德·科内利斯·塔克
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昆拉德·科内利斯·塔克
;
雷姆卡·亨里克斯·威廉颂·皮内伯格
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雷姆卡·亨里克斯·威廉颂·皮内伯格
;
奥拉夫·文尼肯
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奥拉夫·文尼肯
;
马基恩·戈森斯
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马基恩·戈森斯
.
中国专利
:CN110088037A
,2019-08-02
[5]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
何嘉玮
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何嘉玮
;
徐俊伟
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徐俊伟
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沈稘翔
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沈稘翔
;
刘启人
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刘启人
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林易生
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林易生
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郑仰钧
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郑仰钧
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洪伟伦
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洪伟伦
;
陈亮光
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陈亮光
;
陈科维
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陈科维
.
中国专利
:CN110970392B
,2020-04-07
[6]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
陈彦羽
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈彦羽
;
程仲良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程仲良
.
中国专利
:CN112542422B
,2025-09-26
[7]
半导体器件和形成半导体器件的方法
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梁顺鑫
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梁顺鑫
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王振翰
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王振翰
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林耕竹
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林耕竹
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上野哲嗣
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上野哲嗣
;
陈婷婷
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陈婷婷
.
中国专利
:CN113013226A
,2021-06-22
[8]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
宋巍巍
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
宋巍巍
;
斯帝芬·鲁苏
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
斯帝芬·鲁苏
;
周淳朴
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台湾积体电路制造股份有限公司
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周淳朴
;
陈焕能
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
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陈焕能
.
中国专利
:CN113161444B
,2024-04-05
[9]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨智铨
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨智铨
;
徐国修
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐国修
;
张峰铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张峰铭
;
林建隆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林建隆
;
洪连嵘
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪连嵘
.
中国专利
:CN113257816B
,2025-01-14
[10]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
叶佳灵
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叶佳灵
;
陈京玉
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陈京玉
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中国专利
:CN110660844A
,2020-01-07
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