光刻胶气泡排除系统及排除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710037437.2

申请日：

2007-02-12

公开(公告)号：

CN101246311B

公开(公告)日：

2008-08-20

发明(设计)人：

胡习虎

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

B05C1110

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

逯长明

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20070212 授权公告日:20100811 终止日期:20190212
2011-12-28	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101249314173 IPC(主分类):G03F 7/16 专利号:ZL2007100374372 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111116
2008-10-15	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-08-11	授权	授权
2008-08-20	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶气泡消除装置及光刻系统 [P].

张成根 ;

林锺吉 ;

金在植 .

中国专利 :CN222979912U ,2025-06-13

[2]

光刻胶气泡消除装置及光刻系统 [P].

钱晓飞 ;

刘小虎 ;

朱祎明 .

中国专利 :CN114488697A ,2022-05-13

[3]

气泡排除装置及匀胶机 [P].

沈克 ;

简永幸 ;

张雷 .

中国专利 :CN210675762U ,2020-06-05

[4]

故障排除方法、故障排除装置及故障排除系统 [P].

温帅 .

中国专利 :CN110687897A ,2020-01-14

[5]

光刻胶排放系统及光刻胶排放方法 [P].

郑义强 .

中国专利 :CN111090219A ,2020-05-01

[6]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[7]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[8]

一种光刻胶气泡消除装置及光刻系统 [P].

陈阳 ;

余先勇 .

中国专利 :CN223096192U ,2025-07-15

[9]

光刻胶补液装置及光刻胶补液方法 [P].

刘庆超 ;

徐丽芝 ;

颜廷彪 ;

黄志凯 ;

叶日铨 .

中国专利 :CN110083016A ,2019-08-02

[10]

光刻胶更换方法及系统和光刻胶管理方法及系统 [P].

张宏旸 .

中国专利 :CN113240137A ,2021-08-10

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