光刻胶更换方法及系统和光刻胶管理方法及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110583599.6

申请日：

2021-05-27

公开(公告)号：

CN113240137A

公开(公告)日：

2021-08-10

发明(设计)人：

张宏旸

申请人：

申请人地址：

200135 上海市浦东新区云水路600号

IPC主分类号：

G06Q1000

IPC分类号：

G06Q5004 G03F700 G03F716

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

史治法

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	公开	公开
2021-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q 10/00 申请日:20210527

共 50 条

[1]

光刻胶更换方法及系统和光刻胶管理方法及系统 [P].

张宏旸 .

中国专利 :CN113240137B ,2024-07-05

[2]

光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

刘金彪 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111897187A ,2020-11-06

[3]

光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

刘金彪 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111897187B ,2024-04-16

[4]

光刻胶排放系统及光刻胶排放方法 [P].

郑义强 .

中国专利 :CN111090219A ,2020-05-01

[5]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[6]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[7]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[8]

光刻胶涂覆系统及光刻胶涂覆方法 [P].

汝长海 ;

朱军辉 ;

翟荣安 ;

王勇 .

中国专利 :CN112099313A ,2020-12-18

[9]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[10]

光刻胶供应系统及方法 [P].

刘顺财 .

中国专利 :CN1286150C ,2004-06-30

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