一种晶体硅片的清洗工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310076212.3

申请日：

2013-03-11

公开(公告)号：

CN103199005A

公开(公告)日：

2013-07-10

发明(设计)人：

左国军

申请人：

申请人地址：

213125 江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L3118 B08B302 B08B304 B08B308

代理机构：

深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247

代理人：

胡朝阳;孙洁敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-23	授权	授权
2013-07-10	公开	公开
2013-08-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101503522124 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2013100762123 申请日:20130311

共 50 条

[1]

一种晶体硅片预清洗液及其预清洗工艺 [P].

王永丰 ;

朱生宾 ;

刘光 ;

谢忠阳 .

中国专利 :CN102403251A ,2012-04-04

[2]

硅片的清洗工艺 [P].

唐国琴 .

中国专利 :CN102569036A ,2012-07-11

[3]

一种硅片减薄后的清洗工艺 [P].

张冲波 ;

吴镐硕 ;

李皓 ;

刘琦 ;

武卫 ;

孙晨光 .

中国专利 :CN109675858A ,2019-04-26

[4]

硅片清洗工艺 [P].

金文明 ;

贺贤汉 ;

张恩泽 ;

吴佳明 .

中国专利 :CN103762155A ,2014-04-30

[5]

一种多晶硅片制绒清洗工艺方法 [P].

左国军 ;

李国庆 .

中国专利 :CN103151423B ,2013-06-12

[6]

一种硅片清洗工艺 [P].

崔敏娟 .

中国专利 :CN107552481A ,2018-01-09

[7]

一种硅片清洗工艺 [P].

袁祥龙 ;

刘园 ;

武卫 ;

孙晨光 ;

刘建伟 ;

由佰玲 ;

常雪岩 ;

谢艳 ;

杨春雪 ;

刘秒 ;

裴坤羽 ;

祝斌 ;

刘姣龙 ;

王彦君 ;

吕莹 ;

徐荣清 .

中国专利 :CN111199874A ,2020-05-26

[8]

硅片清洗工艺 [P].

冯雪 ;

王庆波 .

中国专利 :CN121034945A ,2025-11-28

[9]

一种适用于RIE制绒后晶体硅片的表面微腐蚀清洗方法 [P].

解观超 ;

刘金浩 ;

上官泉元 .

中国专利 :CN105449045A ,2016-03-30

[10]

一种去除晶体硅片金属离子污染的清洗液及其清洗工艺 [P].

上官泉元 ;

解观超 ;

刘金浩 ;

朱广东 ;

潘景伟 .

中国专利 :CN103013711A ,2013-04-03

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