具有金属增强栅极的分裂栅非易失性闪存存储器单元及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201580072475.4
申请日
2015-11-06
公开(公告)号
CN107210303A
公开(公告)日
2017-09-26
发明(设计)人
C-M.陈 M-T.吴 J-W.杨 C-S.苏
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
H01L2711524
IPC分类号
H01L29423
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
申屠伟进;郑冀之
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
具有金属栅的分裂栅非易失性闪存存储器单元及其制造方法 [P]. 
C.陈 ;
M.吴 ;
J.杨 ;
C.苏 .
中国专利 :CN107112355B ,2017-08-29
[2]
具有金属栅极的分裂栅极非易失性闪存存储器单元及其制造方法 [P]. 
C.苏 ;
F.周 ;
J-W.杨 ;
H.V.陈 ;
N.杜 .
中国专利 :CN108243625B ,2018-07-03
[3]
具有硅金属浮动栅极的分裂栅非易失性闪存单元及其制造方法 [P]. 
J-W.刘 ;
A.科托夫 ;
Y.特卡彻夫 ;
C-S.苏 .
中国专利 :CN105453229B ,2016-03-30
[4]
制造分裂栅非易失性闪存单元的方法 [P]. 
C.王 ;
L.邢 ;
A.刘 ;
M.刁 ;
X.刘 ;
N.杜 .
中国专利 :CN107425003B ,2017-12-01
[5]
减小型分裂栅非易失性闪存单元及其制造方法 [P]. 
C.王 .
中国专利 :CN107293546A ,2017-10-24
[6]
非易失性闪存存储器单元 [P]. 
索努·达里亚纳尼 ;
博米·陈 ;
梅尔·海马斯 .
中国专利 :CN110024084B ,2019-07-16
[7]
具有集成高K金属控制栅的非易失性分裂栅存储器单元及制造方法 [P]. 
杨任伟 ;
吴满堂 ;
陈俊铭 ;
苏千乗 ;
N·多 .
美国专利 :CN111418063B ,2024-01-30
[8]
具有集成高K金属控制栅的非易失性分裂栅存储器单元及制造方法 [P]. 
杨任伟 ;
吴满堂 ;
陈俊铭 ;
苏千乗 ;
N·多 .
中国专利 :CN111418063A ,2020-07-14
[9]
非易失性分裂栅存储器装置及其操作方法 [P]. 
H.V.陈 ;
H.Q.阮 ;
N.杜 .
中国专利 :CN107077891A ,2017-08-18
[10]
制造具有擦除栅极的分裂栅极闪存存储器单元的方法 [P]. 
J-W·杨 ;
C-M·陈 ;
M-T·吴 ;
C-C·范 ;
N·多 .
中国专利 :CN111133515A ,2020-05-08