连续式平面磁控溅射镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920037425.4

申请日：

2009-02-13

公开(公告)号：

CN201343569Y

公开(公告)日：

2009-11-11

发明(设计)人：

冯新伟

申请人：

申请人地址：

213161江苏省常州市武进高新区西湖路8号津通工业园1B楼

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456

代理机构：

常州市维益专利事务所

代理人：

王凌霄

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101710363806 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2009200374254 申请日:20090213 授权公告日:20091111 终止日期:20160213
2009-11-11	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王健文 ;

李学欧 ;

蔡东锋 ;

梁凯基 ;

李劲川 .

中国专利 :CN201437550U ,2010-04-14

[2]

内腔式连续磁控溅射镀膜设备 [P].

韩成明 ;

薛道荣 ;

李峰 ;

褚敬堂 ;

刘子毓 .

中国专利 :CN211142150U ,2020-07-31

[3]

一种磁控溅射连续镀膜设备 [P].

金晨 ;

韩彬 ;

李建银 .

中国专利 :CN208917290U ,2019-05-31

[4]

卧式光学连续磁控溅射镀膜设备 [P].

肖山 .

中国专利 :CN112899635A ,2021-06-04

[5]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08

[6]

磁控溅射镀膜设备 [P].

蒋文彬 ;

李宁 ;

孙忠 ;

黄智 ;

林锦华 ;

梁师国 ;

英文 ;

李保良 .

中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15

[7]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204752843U ,2015-11-11

[8]

磁控溅射镀膜设备 [P].

臧世伟 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222455186U ,2025-02-11

[9]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204727943U ,2015-10-28

[10]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455280U ,2015-07-08

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