内腔式连续磁控溅射镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920885884.1

申请日：

2019-06-12

公开(公告)号：

CN211142150U

公开(公告)日：

2020-07-31

发明(设计)人：

韩成明薛道荣李峰褚敬堂刘子毓

申请人：

申请人地址：

054000 河北省邢台市威县经济开发区跨越路以东、信德路以北

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1456 C23C1416 C23C1406 C23C1408

代理机构：

北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139

代理人：

李林

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-31	授权	授权

共 50 条

[1]

内腔式磁控溅射设备与方法 [P].

韩成明 ;

薛道荣 ;

李峰 ;

褚敬堂 ;

刘子毓 .

中国专利 :CN110205595A ,2019-09-06

[2]

内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构 [P].

李峰 ;

薛道荣 ;

韩成明 ;

李强 ;

刘子毓 .

中国专利 :CN210237767U ,2020-04-03

[3]

内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构与方法 [P].

李峰 ;

薛道荣 ;

韩成明 ;

李强 ;

刘子毓 .

中国专利 :CN110195213A ,2019-09-03

[4]

磁控溅射镀膜设备 [P].

蒋文彬 ;

李宁 ;

孙忠 ;

黄智 ;

林锦华 ;

梁师国 ;

英文 ;

李保良 .

中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15

[5]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王健文 ;

李学欧 ;

蔡东锋 ;

梁凯基 ;

李劲川 .

中国专利 :CN201437550U ,2010-04-14

[6]

连续式平面磁控溅射镀膜设备 [P].

冯新伟 .

中国专利 :CN201343569Y ,2009-11-11

[7]

磁控溅射镀膜装置 [P].

刘龙龙 ;

李亮生 ;

祁文杰 ;

刘群 .

中国专利 :CN223445626U ,2025-10-17

[8]

用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备 [P].

陈军 ;

李弋舟 ;

陈曦 .

中国专利 :CN212199402U ,2020-12-22

[9]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08

[10]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204752843U ,2015-11-11

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