采用聚焦离子束的电路跟踪

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410164753.6

申请日：

2014-04-23

公开(公告)号：

CN104122282B

公开(公告)日：

2014-10-29

发明(设计)人：

克里斯·帕夫洛维奇亚历山大·索金迈克尔·W·法纳夫亚历山大·克里茨米尔肯·G·拉加里克

申请人：

申请人地址：

加拿大安大略省

IPC主分类号：

G01N2322

IPC分类号：

代理机构：

上海申新律师事务所 31272

代理人：

吴俊

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-01-18	授权	授权
2016-06-08	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101733953635 IPC(主分类):G01N 23/22 专利申请号:2014101647536 登记生效日:20160520 变更事项:申请人变更前权利人:克里斯·帕夫洛维奇变更后权利人:泰科英赛科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:加拿大安大略省变更后权利人:加拿大安大略省变更事项:申请人变更前权利人:亚历山大·索金;迈克尔·W·法纳夫;亚历山大·克里茨米尔;肯·G·拉加里克变更后权利人:无
2014-10-29	公开	公开
2014-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101589572267 IPC(主分类):G01N 23/22 专利申请号:2014101647536 申请日:20140423

共 50 条

[41]

用于大面积基板的聚焦离子束系统 [P].

伯纳德·G·穆勒 .

美国专利 :CN112912988B ,2024-12-17

[42]

精确定位聚焦离子束修补位置的方法 [P].

张启华 ;

江秀霞 ;

季春葵 ;

李冠华 .

中国专利 :CN1941276A ,2007-04-04

[43]

用于最佳聚焦离子束蚀刻的自适应几何 [P].

I·布莱瓦斯 ;

G·布鲁纳 ;

Y·祖尔 ;

A·梅罗夫 ;

R·戴维德斯库 ;

K·多坦 ;

A·利特曼 .

中国专利 :CN115461849A ,2022-12-09

[44]

聚焦离子束装置 [P].

大西毅 ;

岩堀敏行 .

中国专利 :CN107204268B ,2017-09-26

[45]

一种聚焦离子束中的样品台 [P].

达晓冬 ;

闫国友 .

中国专利 :CN117976499A ,2024-05-03

[46]

获得聚焦离子束的能谱技术领域 [P].

马丁·扬松 .

中国专利 :CN112823820B ,2021-05-21

[47]

聚焦离子束装置 [P].

作田训将 ;

福田知久 ;

水野议觉 .

日本专利 :CN120376390A ,2025-07-25

[48]

聚焦离子束装置 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN115699243A ,2023-02-03

[49]

聚焦离子束装置 [P].

水村通伸 .

日本专利 :CN115699243B ,2024-12-17

[50]

聚焦离子束装置 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN115668433A ,2023-01-31

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