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一种具有复合保护层的半导体结构
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201620888130.8
申请日
:
2016-08-16
公开(公告)号
:
CN206022345U
公开(公告)日
:
2017-03-15
发明(设计)人
:
王勇
申请人
:
申请人地址
:
361000 福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号
IPC主分类号
:
H01L2329
IPC分类号
:
H01L2331
代理机构
:
厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204
代理人
:
张松亭
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-03-15
授权
授权
共 50 条
[1]
划片槽阻隔分离型保护层半导体结构
[P].
陈文军
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陈文军
;
施建根
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施建根
;
冯玉祥
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冯玉祥
.
中国专利
:CN204391083U
,2015-06-10
[2]
一种半导体保护层
[P].
涂波
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涂波
.
中国专利
:CN107068833A
,2017-08-18
[3]
具有保护层的半导体发光元件
[P].
姚久琳
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0
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0
姚久琳
;
吕志强
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吕志强
.
中国专利
:CN102130261A
,2011-07-20
[4]
具有保护层的半导体发光元件
[P].
姚久琳
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姚久琳
;
吕志强
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吕志强
.
中国专利
:CN104064636A
,2014-09-24
[5]
通过使用保护层制造半导体结构的方法和半导体结构
[P].
J·霍兹
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J·霍兹
.
中国专利
:CN1409372A
,2003-04-09
[6]
具有复合保护层的半导体芯片及其制备方法
[P].
马欢
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机构:
京东方华灿光电(苏州)有限公司
京东方华灿光电(苏州)有限公司
马欢
.
中国专利
:CN120786921A
,2025-10-14
[7]
具有复合模制层的半导体结构
[P].
朴焕悦
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朴焕悦
;
金桓佑
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金桓佑
;
李钟圭
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李钟圭
;
崔哲焕
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崔哲焕
.
中国专利
:CN114759029A
,2022-07-15
[8]
一种半导体双层保护层的制作工艺方法
[P].
郭晓波
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郭晓波
;
孟鸿林
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孟鸿林
.
中国专利
:CN103107067A
,2013-05-15
[9]
具有硅胶保护层的半导体发光器件
[P].
江风益
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江风益
;
刘军林
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刘军林
;
王立
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王立
.
中国专利
:CN102067337A
,2011-05-18
[10]
具有过孔保护层的半导体装置
[P].
朴点龙
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴点龙
;
宋乺智
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
宋乺智
;
安振镐
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
安振镐
;
秦正起
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
秦正起
;
千镇豪
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
千镇豪
;
崔朱逸
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔朱逸
.
韩国专利
:CN113540013B
,2025-09-23
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