具有复合保护层的半导体芯片及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510701455.4
申请日
2025-05-28
公开(公告)号
CN120786921A
公开(公告)日
2025-10-14
发明(设计)人
马欢
申请人
京东方华灿光电(苏州)有限公司
申请人地址
215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
IPC主分类号
H10D30/47
IPC分类号
H10D30/01
代理机构
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
徐立
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体芯片保护层的制备方法和半导体芯片 [P]. 
付兴中 ;
王川宝 ;
廖龙忠 ;
吕树海 ;
张力江 ;
崔玉兴 .
中国专利 :CN108364857B ,2018-08-03
[2]
具有复合缓冲层的半导体芯片及其制备方法 [P]. 
马欢 .
中国专利 :CN121057274A ,2025-12-02
[3]
在半导体芯片上形成保护层的方法 [P]. 
张良冬 ;
郑香平 .
中国专利 :CN1125484C ,1999-10-13
[4]
一种具有复合保护层的半导体结构 [P]. 
王勇 .
中国专利 :CN206022345U ,2017-03-15
[5]
具有复合保护层的分裂栅功率半导体功率器件及制备方法 [P]. 
陈利 ;
陈彬 .
中国专利 :CN113690199A ,2021-11-23
[6]
具有集成电容的半导体芯片及其制备方法 [P]. 
张忠宇 .
中国专利 :CN120813033A ,2025-10-17
[7]
具有复合保护层的发光二极管芯片及其制备方法 [P]. 
兰叶 ;
吴志浩 ;
王江波 ;
陶羽宇 .
中国专利 :CN113410361A ,2021-09-17
[8]
半导体芯片及具有该半导体芯片的叠层半导体封装 [P]. 
金圣敏 ;
朴昌濬 ;
韩权焕 ;
金圣哲 ;
李荷娜 .
中国专利 :CN101494207B ,2009-07-29
[9]
具有多孔单晶层的半导体芯片及其制造方法 [P]. 
大汤静宪 ;
滨田耕治 ;
小此木坚祐 ;
三宅秀治 ;
神月靖 ;
渡边正晴 .
中国专利 :CN100502033C ,2006-09-13
[10]
具有复合保护层的正极材料及其制备方法和应用 [P]. 
柴海涛 ;
方胜庭 ;
田新勇 .
中国专利 :CN117996021A ,2024-05-07