基板研磨装置及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810898811.6

申请日：

2018-08-08

公开(公告)号：

CN109382755B

公开(公告)日：

2019-02-26

发明(设计)人：

渡边夕贵八木圭太

申请人：

申请人地址：

日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B3710 B24B37013 B24B3730 B24B3734

代理机构：

上海华诚知识产权代理有限公司 31300

代理人：

张丽颖

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/04 申请日:20180808
2019-02-26	公开	公开
2022-05-03	授权	授权

共 50 条

[1]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

渡边夕贵 ;

八木圭太 .

中国专利 :CN109290942B ,2019-02-01

[2]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

西尾干夫 .

中国专利 :CN1494982A ,2004-05-12

[3]

基板研磨方法、程序及基板研磨装置 [P].

斋藤步 .

日本专利 :CN119546417A ,2025-02-28

[4]

基板研磨系统及方法和基板研磨装置 [P].

铃木佑多 ;

高桥太郎 ;

小川彰彦 ;

降矢滋行 ;

八木裕治 ;

高田畅行 ;

德永晋平 .

日本专利 :CN111604809B ,2024-05-31

[5]

基板研磨系统及方法和基板研磨装置 [P].

铃木佑多 ;

高桥太郎 ;

小川彰彦 ;

降矢滋行 ;

八木裕治 ;

高田畅行 ;

德永晋平 .

中国专利 :CN111604809A ,2020-09-01

[6]

基板研磨装置、基板研磨方法、研磨装置及研磨方法 [P].

吉田笃史 ;

石井游 ;

中西正行 .

日本专利 :CN119212826A ,2024-12-27

[7]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

福永明 ;

渡边和英 ;

小畠严贵 ;

辻村学 .

中国专利 :CN110663103A ,2020-01-07

[8]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

周文涛 .

中国专利 :CN111152095A ,2020-05-15

[9]

基板研磨装置和基板研磨方法 [P].

藤本拓矢 ;

高田畅行 .

中国专利 :CN115139214A ,2022-10-04

[10]

基板研磨装置 [P].

申盛皓 ;

郑熙澈 ;

金绣镐 .

韩国专利 :CN220660425U ,2024-03-26

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