半导体器件制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710318784.6
申请日
2017-05-08
公开(公告)号
CN107068764B
公开(公告)日
2017-08-18
发明(设计)人
黄秋铭
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2128 H01L21336
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
智云
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构、半导体器件及其制造方法 [P]. 
沙哈吉·B·摩尔 ;
李承翰 .
中国专利 :CN115132661A ,2022-09-30
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半导体器件及其制备方法 [P]. 
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[3]
半导体器件及其制备方法 [P]. 
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[4]
半导体器件及其制备方法 [P]. 
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[5]
半导体器件、半导体结构及其制备方法 [P]. 
白杰 .
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[6]
一种FinTFET半导体器件及其制备方法 [P]. 
黄新运 .
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[7]
半导体器件 [P]. 
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[8]
半导体器件 [P]. 
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[9]
半导体器件 [P]. 
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[10]
半导体器件的制备方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN104282570B ,2015-01-14