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一种在硅衬底上直接外延生长锗虚拟衬底的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810992194.6
申请日
:
2018-08-29
公开(公告)号
:
CN109166788A
公开(公告)日
:
2019-01-08
发明(设计)人
:
芦红
苗艺
魏炼
叶佳佳
宋欢欢
陈延峰
申请人
:
申请人地址
:
210046 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
江苏法德永衡律师事务所 32305
代理人
:
胡玲
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-08
公开
公开
2019-02-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20180829
2021-03-19
授权
授权
共 50 条
[1]
锗硅衬底的生长方法以及锗硅衬底
[P].
魏星
论文数:
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魏星
;
薛忠营
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薛忠营
;
曹共柏
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曹共柏
;
张峰
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张峰
;
张苗
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张苗
;
王曦
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王曦
.
中国专利
:CN102386068B
,2012-03-21
[2]
锗衬底的生长方法以及锗衬底
[P].
魏星
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魏星
;
薛忠营
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薛忠营
;
曹共柏
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曹共柏
;
张峰
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张峰
;
张苗
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张苗
;
王曦
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王曦
.
中国专利
:CN102383192B
,2012-03-21
[3]
一种在锗衬底上外延生长单晶钛酸钡薄膜的方法
[P].
牛刚
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牛刚
;
代立言
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代立言
;
任巍
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任巍
;
赵金燕
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赵金燕
;
王延昆
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王延昆
;
武和平
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武和平
;
刘逸为
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刘逸为
;
王玲艳
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王玲艳
;
史鹏
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史鹏
.
中国专利
:CN109898138A
,2019-06-18
[4]
一种优化的在硅衬底上外延生长β-碳化硅薄膜的方法
[P].
赵志飞
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赵志飞
;
李赟
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李赟
;
朱志明
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朱志明
.
中国专利
:CN105140102B
,2015-12-09
[5]
一种在InP衬底上外延生长InGaAs的方法
[P].
于海龙
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
于海龙
;
高汉超
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
高汉超
;
王伟
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
王伟
;
马奔
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
马奔
.
中国专利
:CN114232085B
,2024-02-06
[6]
一种在InP衬底上外延生长InGaAs的方法
[P].
于海龙
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于海龙
;
高汉超
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高汉超
;
王伟
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王伟
;
马奔
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马奔
.
中国专利
:CN114232085A
,2022-03-25
[7]
一种硅衬底上单晶硅外延生长方法
[P].
余林蔚
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
余林蔚
;
陈婷婷
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
陈婷婷
;
梁磊
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
梁磊
;
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机构:
徐伟
;
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机构:
王佳佳
;
思佳乐
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
思佳乐
;
杨德仁
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
杨德仁
.
中国专利
:CN121137795A
,2025-12-16
[8]
一种在非金属衬底上生长磷烯的方法
[P].
论文数:
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机构:
张伟
;
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机构:
曹水艳
;
孙向楠
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机构:
南京航空航天大学
南京航空航天大学
孙向楠
;
赵晓明
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机构:
南京航空航天大学
南京航空航天大学
赵晓明
;
论文数:
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机构:
郭万林
.
中国专利
:CN120719392A
,2025-09-30
[9]
一种在硅衬底上生长的氮化镓外延结构
[P].
陈振
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陈振
.
中国专利
:CN104733511A
,2015-06-24
[10]
一种硅基图形衬底上生长外延层的方法
[P].
朱建军
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朱建军
;
徐科
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徐科
;
王建峰
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王建峰
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中国专利
:CN101378017A
,2009-03-04
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