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一种湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910647531.2
申请日
:
2019-07-17
公开(公告)号
:
CN110364421B
公开(公告)日
:
2019-10-22
发明(设计)人
:
褚海波
申请人
:
申请人地址
:
430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
H01L2167
H01L21677
代理机构
:
上海申新律师事务所 31272
代理人
:
俞涤炯
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-25
授权
授权
2019-10-22
公开
公开
2019-11-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20190717
共 50 条
[1]
一种湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
房现飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
房现飞
;
周广福
论文数:
0
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0
周广福
;
代智杰
论文数:
0
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0
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0
代智杰
;
孟原
论文数:
0
引用数:
0
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0
孟原
.
中国专利
:CN103409752A
,2013-11-27
[2]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
陆丛希
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陆丛希
.
中国专利
:CN121149048A
,2025-12-16
[3]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
刘哲准
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
长鑫存储技术有限公司
长鑫存储技术有限公司
刘哲准
.
中国专利
:CN118352261A
,2024-07-16
[4]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
薛大鹏
论文数:
0
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0
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0
薛大鹏
.
中国专利
:CN105742213B
,2016-07-06
[5]
湿法刻蚀系统、湿法刻蚀方法
[P].
姚嫦娲
论文数:
0
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0
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0
姚嫦娲
.
中国专利
:CN103985660B
,2014-08-13
[6]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法
[P].
丁向前
论文数:
0
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丁向前
;
刘晓伟
论文数:
0
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0
刘晓伟
;
刘耀
论文数:
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刘耀
;
郭总杰
论文数:
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郭总杰
.
中国专利
:CN104018158A
,2014-09-03
[7]
湿法刻蚀系统及湿法刻蚀方法
[P].
薛大鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
薛大鹏
.
中国专利
:CN106653659A
,2017-05-10
[8]
一种湿法刻蚀方法及湿法刻蚀设备
[P].
陈会敏
论文数:
0
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0
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0
机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
陈会敏
;
邱杰振
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
邱杰振
;
田锋
论文数:
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
田锋
.
中国专利
:CN120656953A
,2025-09-16
[9]
湿法刻蚀方法以及湿法刻蚀设备
[P].
张凌越
论文数:
0
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0
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张凌越
;
王强
论文数:
0
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0
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0
王强
.
中国专利
:CN102437045A
,2012-05-02
[10]
湿法刻蚀方法
[P].
张泉
论文数:
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张泉
;
杨谊
论文数:
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杨谊
;
王春伟
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王春伟
.
中国专利
:CN111799168A
,2020-10-20
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