垂直结构深紫外发光二极管及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911364817.6
申请日
2019-12-26
公开(公告)号
CN111106212A
公开(公告)日
2020-05-05
发明(设计)人
王永进 蒋元
申请人
申请人地址
210019 江苏省南京市建邺区嘉陵江东街8号B4幢4层三单元
IPC主分类号
H01L3306
IPC分类号
H01L3314 H01L3300
代理机构
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人
孙佳胤;陈丽丽
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
深紫外发光二极管及其制备方法 [P]. 
许佼 ;
刘宇航 ;
王留毅 ;
郭登极 ;
王序进 ;
郭镇斌 ;
林建军 ;
杨云 .
中国专利 :CN115548177B ,2024-06-21
[2]
深紫外发光二极管及其制备方法 [P]. 
许佼 ;
刘宇航 ;
王留毅 ;
郭登极 ;
王序进 ;
郭镇斌 ;
林建军 ;
杨云 .
中国专利 :CN115548177A ,2022-12-30
[3]
深紫外发光二极管外延片及其制备方法、深紫外发光二极管 [P]. 
程龙 ;
郑文杰 ;
高虹 ;
刘春杨 ;
胡加辉 ;
金从龙 .
中国专利 :CN115714155B ,2025-10-31
[4]
深紫外发光二极管外延片及其制备方法、深紫外发光二极管 [P]. 
程龙 ;
郑文杰 ;
高虹 ;
刘春杨 ;
胡加辉 ;
金从龙 .
中国专利 :CN115832131B ,2025-10-17
[5]
深紫外发光二极管及其制备方法 [P]. 
姚禹 ;
郑远志 ;
陈向东 ;
梁旭东 .
中国专利 :CN108538976A ,2018-09-14
[6]
深紫外发光二极管及其制造方法 [P]. 
郑锦坚 ;
毕京锋 ;
高默然 ;
范伟宏 ;
曾家明 ;
张成军 .
中国专利 :CN113380930B ,2021-09-10
[7]
深紫外发光二极管及其制造方法 [P]. 
范伟宏 ;
李东昇 ;
张晓平 ;
马新刚 ;
高默然 ;
赵进超 .
中国专利 :CN112510126B ,2021-03-16
[8]
深紫外发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管 [P]. 
程龙 ;
郑文杰 ;
高虹 ;
刘春杨 ;
胡加辉 ;
金从龙 .
中国专利 :CN115986020B ,2025-08-05
[9]
深紫外发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管 [P]. 
张彩霞 ;
印从飞 ;
程金连 ;
刘春杨 ;
胡加辉 ;
金从龙 .
中国专利 :CN116387420B ,2024-07-16
[10]
一种垂直结构深紫外发光二极管及其制备方法 [P]. 
崔志勇 ;
尉尊康 ;
李勇强 ;
郭凯 ;
薛建凯 ;
张向鹏 ;
张晓娜 ;
王雪 .
中国专利 :CN112310255A ,2021-02-02