化学机械研磨组合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN01104727.5
申请日
2001-02-21
公开(公告)号
CN1370811A
公开(公告)日
2002-09-25
发明(设计)人
陈书政 李宗和
申请人
申请人地址
中国台湾
IPC主分类号
C09K314
IPC分类号
代理机构
永新专利商标代理有限公司
代理人
林晓红
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
化学机械研磨组合物 [P]. 
李宗和 ;
叶翠萍 .
中国专利 :CN1288927A ,2001-03-28
[2]
化学机械研磨组合物 [P]. 
侯惠芳 ;
刘文政 ;
陈宝丞 ;
陈彦良 ;
陈瑞清 .
中国专利 :CN101058710A ,2007-10-24
[3]
化学机械研磨组合物和方法 [P]. 
赖欣宜 ;
李康华 ;
刘文政 .
中国专利 :CN101735730A ,2010-06-16
[4]
化学机械研磨组合物及方法 [P]. 
李宗和 ;
李康华 ;
叶翠萍 .
中国专利 :CN1107097C ,2001-02-07
[5]
化学机械研磨组合物 [P]. 
李宗和 .
中国专利 :CN1092696C ,1999-04-14
[6]
化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P]. 
山田裕也 ;
王鹏宇 ;
杉江纪彦 ;
亀井康孝 .
日本专利 :CN114667593B ,2025-08-12
[7]
化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P]. 
山田裕也 ;
王鹏宇 ;
杉江纪彦 ;
亀井康孝 .
中国专利 :CN114630880A ,2022-06-14
[8]
化学机械研磨用组合物以及化学机械研磨方法 [P]. 
山田裕也 ;
王鹏宇 ;
杉江纪彦 ;
亀井康孝 .
中国专利 :CN114667593A ,2022-06-24
[9]
半导体制程用的化学机械研磨组合物 [P]. 
李宗和 ;
叶翠萍 .
中国专利 :CN1126152C ,2000-03-08
[10]
半导体加工用化学机械研磨组合物 [P]. 
李宗和 ;
李康华 ;
叶翠萍 .
中国专利 :CN1281023A ,2001-01-24