用于纳米压印光刻系统的两平动一转动精密定位工作台

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专利类型
发明
申请号
CN200910229008.4
申请日
2009-12-07
公开(公告)号
CN101710229A
公开(公告)日
2010-05-19
发明(设计)人
田延岭 贾晓辉 张大卫
申请人
申请人地址
300072 天津市南开区卫津路92号
IPC主分类号
G03F700
IPC分类号
代理机构
天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201
代理人
王丽英
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台 [P]. 
田延岭 ;
贾晓辉 ;
张大卫 .
中国专利 :CN101770166A ,2010-07-07
[2]
用于纳米压印光刻系统的六自由度精密定位工作台 [P]. 
田延岭 ;
贾晓辉 ;
张大卫 .
中国专利 :CN101726997B ,2010-06-09
[3]
用于纳米压印光刻系统的三自由度微定位工作台 [P]. 
田延岭 ;
贾晓辉 ;
张大卫 .
中国专利 :CN101776851B ,2010-07-14
[4]
一种大行程两平动一转动精密定位平台 [P]. 
蔡坤海 ;
田延岭 ;
张大卫 .
中国专利 :CN103714865B ,2014-04-09
[5]
一种大行程两平动一转动精密定位平台 [P]. 
蔡坤海 ;
田延岭 ;
张大卫 .
中国专利 :CN203689921U ,2014-07-02
[6]
一种用于纳米压印设备的自动定位工作台 [P]. 
冀然 .
中国专利 :CN211841667U ,2020-11-03
[7]
具有两平动一转动的并联机构 [P]. 
宫金良 ;
张彦斐 ;
齐大志 .
中国专利 :CN104858860B ,2015-08-26
[8]
解耦型两平动一转动并联机器人 [P]. 
宫金良 ;
张彦斐 ;
陈超 .
中国专利 :CN105108742A ,2015-12-02
[9]
具有纳米级分辨率的超精密定位工作台 [P]. 
李志刚 .
中国专利 :CN104440141A ,2015-03-25
[10]
一种用于超精密定位的三自由度微操作正交并联工作台 [P]. 
杨启志 ;
朱小兵 ;
陈龙 ;
黄国全 ;
吴伟光 .
中国专利 :CN102446563A ,2012-05-09