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互连结构及其形成方法,集成电路
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610006671.8
申请日
:
2016-01-06
公开(公告)号
:
CN106952864A
公开(公告)日
:
2017-07-14
发明(设计)人
:
张海洋
张城龙
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L21768
IPC分类号
:
H01L23532
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
蔡杰赟;吴敏
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-08-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101739969617 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2016100066718 申请日:20160106
2017-07-14
公开
公开
共 50 条
[1]
用于集成电路的互连结构及其形成方法
[P].
A·M·迈尔斯
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A·M·迈尔斯
;
P·K·查维特
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P·K·查维特
;
T·A·莱特森
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T·A·莱特森
;
杨事宁
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杨事宁
;
P·白
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P·白
.
中国专利
:CN1106688C
,1997-12-24
[2]
集成电路及其互连结构
[P].
杨雯
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杨雯
;
刘燕翔
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刘燕翔
;
曾秋玲
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曾秋玲
;
陈赞锋
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陈赞锋
;
夏禹
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夏禹
.
中国专利
:CN112400220B
,2021-02-23
[3]
用于集成电路装置的互连结构及其形成方法
[P].
江政鸿
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江政鸿
;
巫幸晃
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巫幸晃
;
刘家玮
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刘家玮
.
中国专利
:CN115527925A
,2022-12-27
[4]
包含通孔互连结构的集成电路结构及其形成方法
[P].
张宏光
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张宏光
;
卡尔·J·拉登斯
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卡尔·J·拉登斯
;
L·A·克莱文杰
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L·A·克莱文杰
.
中国专利
:CN108573955B
,2018-09-25
[5]
集成电路结构及其形成方法
[P].
林志男
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林志男
;
吴家宇
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴家宇
;
许凯翔
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
许凯翔
;
刘定一
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘定一
.
中国专利
:CN112435958B
,2024-08-13
[6]
集成电路结构及其形成方法
[P].
林志男
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林志男
;
吴家宇
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吴家宇
;
许凯翔
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许凯翔
;
刘定一
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刘定一
.
中国专利
:CN112435958A
,2021-03-02
[7]
集成电路结构及其形成方法
[P].
林政贤
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林政贤
;
杨敦年
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杨敦年
;
林杏芝
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林杏芝
;
刘人诚
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刘人诚
;
高敏峰
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高敏峰
;
黄薰莹
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黄薰莹
.
中国专利
:CN106653682A
,2017-05-10
[8]
集成电路的互连结构
[P].
J-P·雷纳尔
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J-P·雷纳尔
;
S·德尔梅迪科
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S·德尔梅迪科
;
P·布龙
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0
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P·布龙
.
中国专利
:CN113035774A
,2021-06-25
[9]
集成电路和集成电路的互连结构
[P].
塞哈特·苏塔迪嘉
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塞哈特·苏塔迪嘉
.
中国专利
:CN101652858A
,2010-02-17
[10]
集成电路金属互连结构以及集成电路
[P].
杨军
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杨军
.
中国专利
:CN208835054U
,2019-05-07
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